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      • KCI등재

        이두근의 근전도 출력과 동기화된 뇌파의 활성도변화와 신호의 제어 가능성

        전부일,조현찬 한국전기전자학회 2018 전기전자학회논문지 Vol.22 No.4

        본 논문은 인간의 신체활동에 있어서 뇌의 신호가 연결된 근육으로 정보를 제공하고 받아오는 과정에서 유의미한 결과를나타내는지에 관한 관계를 해석한다. 사람의 의식적 활동은 활동에 필요한 근육의 동작을 위하여 뇌로부터 생성된 전기신호의 전달에 의해 가능해 진다. 근육의 활성정보를 가지고 있는 근전도 신호는 근육활성화의 결과를 전기적인 신호로 출력하는데, 이 출력은 보통 근육의 수축과 이완에 따른 근육활성 정보를 출력한다. 본 연구에서는 이런 뇌전도와 근전도를 실시간으로 추출하여 데이터를 획득하고, 데이터 분석을 통해 눈으로 쉽게 확인하기 어려운 두 신호간의 관계를 분석하는데 목적이있다. This paper interprets the relationship between the physical activity of the human and the signal of the brain to showthe meaningful results in the process of sending and receiving information to the connected muscles. When a personworks or thinks, a specific brain signal is generated from the brain and being trasmmited to the connected part. TheEMG signal, which has muscle activity information, outputs the result of the muscle activation as an electrical signal,which outputs muscle activity information usually due to muscle contraction and relaxation. The purpose of this study isto analyze the relationship between the two signals, which are difficult to identify easily by visual data extraction anddata acquisition by extracting such EMG and EMG in real time.

      • KCI등재

        좌우 이두근의 근전도 출력에 따른 뇌파의활성도 변화와 관련성 탐색

        전부일,김종원 한국전기전자학회 2019 전기전자학회논문지 Vol.23 No.2

        This paper confirms whether the movement or specific operation of the muscles in the process of transferring a person from the braincan find a signal showing an essential feature of a certain part of the brain. As a rule, the occurrence of EEG(Electroencephalogram)changes when a signal is received from a specific action or from an induced action. These signals are very vague and difficult todistinguish from the naked eye. Therefore, it is necessary to define a signal for analysis before classification. The EEG form can be dividedinto the alpha, beta, delta, theta and gamma regions in the frequency ranges. The specific size of these signals does not reflect the exactbehavior or intention, since the band or energy difference of the activated frequencies varies depending on the EEG measurement domain. However, if different actions are performed in a specific method, it is possible to classify the movement based on EEG activity and todetermine the EEG tendency affecting the movement. Therefore, in this article, we first study the EEG expression pattern based on theactivation of the left and right biceps EMG, and then we determine whether there is a significant difference between the EEG due to theactivation of the left and right muscles through EEG. If we can find the EEG classification criteria in accordance with the EMG activation,it can help to understand the form of the transmitted signal in the process of transmitting signals from the brain to each muscle. Inaddition, we can use a lot of unknown EEG information through more complex types of brain signal generation in the future. 본 논문은 인간의 의지가 뇌로부터 전달되는 과정에서 근육의 움직임이나 동작이 뇌의 특정 부위에서 유의미한 특징을 나타내는 신호를찾아낼 수 있는지를 확인한다. 일반적으로 뇌파의 발생은 특정한 동작을 유발하고 유발된 동작으로부터 신호를 받아 변화를 보인다. 이러한신호는 불확실성이 높으며 육안으로 판별하기엔 그 차이를 파악하기 어렵다. 따라서 분류에 앞서 어떤 신호를 분석할 것인지 정의하는 과정이필요하다. 뇌파 혹은 뇌전도의 형태는 주파수 대역별로 분류하였을 경우, 알파, 베타, 델타, 쎄타, 감마의 영역으로 나눌 수가 있다. 뇌파의 측정 부위에 따라 활성화되는 주파수의 대역이나 에너지의 차이가 다르기 때문에 이들 신호의 특정한 크기가 정확한 동작이나 의지를 표현한다고 할 수는 없지만, 특정한 영역에서 다른 동작을 했을 경우의 뇌파 활성도를 기준으로 동작을 분류하거나, 동작에 영향을 미치는 뇌파의 경향성을 판단할 수 있다. 따라서 본 논문에서는 1차적으로 근육의 좌우 이두근의 근전도가 활성화 되는 시점을 기준으로 뇌파의 발현형태를 관찰하고, 이후 좌완과 우완의 근육 활성화에 따른 뇌파의 유의미한 차이를 뇌파를 통해 유추할 수 있는지를 검증한다. 근전도의 좌우활성화에 따른 뇌파의 분류기준을 찾을 수 있다면, 뇌로부터 발현된 신호가 각각의 근육에 전달되는 과정에서 전이된 신호의 형태를 파악하는데 도움을줄 수 있으며, 향후 더욱 복잡한 뇌신호의 발생 유형을 통해 알려지지 않은 많은 뇌파의 정보를 활용할 수 있을 것으로 판단한다.

      • KCI등재

        CoGe 박막 기반 galvanic cell의 특성 및 IoT 센서 네트워크에 대한 적용

        전부일,한동수,윤기완 한국정보통신학회 2022 한국정보통신학회논문지 Vol.26 No.9

        In this paper, we investigate the properties of CoGe thin film-based galvanic cells as a function of their dimension (cell length, width, etc.) and show their application as sensors to Arduino-based IoT sensor networks to detect water contact. Because these CoGe thin film-based galvanic cells do not require mechanical strains or temperature gradients unlike piezoelectric and thermoelectric energy harvesters, we think that these thin film-based galvanic cells are more suitable for self-powered sensor networks demanding sustainable and robust energy harvesters. In the past, a sputter-deposited CoGe thin film has not been intensively investigated for energy harvesting appilcations. Thus, in this study, we perform a feasibility study of galvanic cells composed of a sputter-deposited CoGe thin film to see if they can be applied as potential self-powered sensors. We believe that this paper will be of great help in developing even more enhanced sensor networks.

      • NASICON-type NaV<sub>2</sub>(PO<sub>4</sub>)<sub>3</sub> as a cathode material for calcium-ion batteries

        전부,허종욱,형주은,곽헌호,이동민,홍승태 한국공업화학회 2020 한국공업화학회 연구논문 초록집 Vol.2020 No.-

        The recent discovery of reversible plating and alloying of calcium has invoked considerable interest in calcium-based rechargeable batteries toward overcoming the limitations of conventional Li-ion batteries. Theoretical calculations also suggest that the development of cathode materials is anticipated. However, only a few cathode materials have been tested thus far, and these exhibit low energy-storage capability and poor cyclability. Herein, we report the highly reversible Ca-intercalation capability of NASICON-type NaV<sub>2</sub>(PO<sub>4</sub>)<sub>3</sub>, making it potential cathode material for nonaqueous Ca-ion batteries, with high capacity (90 mAh g<sup>-1</sup>) and voltage (~3.5 V), and good cyclability. These results demonstrate the feasibility of NaV<sub>2</sub>(PO<sub>4</sub>)<sub>3</sub>, as a highly reversible intercalation-type cathode material for calcium-ion batteries, and unveil the underlying intercalation mechanism.

      • KCI우수등재

        Chemical Mechanical Polishing (CMP) 공정후의 금속오염의 제거를 위한 건식세정

        전부용(Bu-yong Jeon),이종무(Chongmu Lee) 한국진공학회(ASCT) 2000 Applied Science and Convergence Technology Vol.9 No.2

        Chemical mechanical polishing (CMP) 공정 중 제거된 막과 연마재의 지꺼기를 제거하기 위하여 일반적으로 사용하는 scrubbing과 같은 기계적인 세정법으로는 기가급 소자 제조사에 요구되는 10^(10)/㎠ 이하의 오염도에 도달하기 어렵다. 따라서 이러한 기계적인 세정법에 이어 충분히 제거되지 못한 금속오염물을 제거하기 위한 2차 세정이 요구된다. 본 논문에서는 리모트 플라스마 세정법과 UV/O₃ 세정법을 사용하여 oxide CMP 후에 웨이퍼 표면에 많이 존재하는 K, Fe, Cu 등의 금속오염물을 제거하는데 대한 연구결과를 보고하고자 한다. 리모트 수소 플라스마 세정결과에 의하면, 세정시간이 짧을 수록, rf-power가 증가할수록 세정 효과가 우수한 것으로 나타났으며, CMP 공정 후 웨이퍼 표면에 특히 많이 존재하는 금속 불순물인 K, Fe, Cu 등의 오염 제거를 위한 최적 공정 조건은 세정시간이 1분, rf-power가 100 W인 것으로 나타났다. AFM 분석 결과에 의하면 rf-power의 증가에 따라 표면 거칠기가 미소하게 증가하는데, 이것은 플라스마에 의한 손상 때문인 것으로 보이나 그 정도는 무시할만하다. 한편, UV/O₃ 세정의 경우에는 세정공정시간이 30 sec 일때 가장 우수한 세정효과가 얻어졌다. 리모트 수소 플라스마 및 UV/O₃ 세정방법에 의한 Si 웨이퍼 표면의 금속 불순물 제거기구는 Si 표면 금속오염의 하단층에 생성된 SiO₂가 H^+ 및 e-와 반응하여 SiO^*상태로 휘발될 때 금속불순물이 SiO^*에 묻어서 함께 제거되는 것으로 사료된다. It is difficult to meet the cleanliness requirement of l0^(10)/㎠ for the giga level device fabrication with mechanical cleaning techniques like scrubbing which is widely used to remove the particles generated during Chemical Mechanical Polishing (CMP) processes. Therefore, the second cleaning process is needed to remove metallic contaminants which were not completely removed during the mechanical cleaning process. In this paper the experimental results for the removal of the metallic contaminants existing on the wafer surface using remote plasma H₂ cleaning and UV/O₃ cleaning techniques are reported. In the remote plasma H₂ cleaning the efficiency of contaminants removal increases with decreasing the plasma exposure time and increasing the rf-power. Also the optimum process conditions for the removal of K, Fe and Cu impurities which are easily found on the wafer surface after CMP processes are the plasma exposure time of 1min and the rf-power of 100 W. The surface roughness decreased by 30~50 % after remote plasma Hz cleaning. On the other hand, the highest efficiency of K, Fe and Cu impurities removal was achieved for the UV exposure time of 30 sec. The removal mechanism of the metallic contaminants like K, Fe and Cu in the remote plasma Hz and the UV/O₃ cleaning processes is as follows: the metal atoms are lifted off by SiO^* when the SiO^* is evaporated after the chemical SiO₂ formed under the metal atoms reacts with H+ and e- to form SiO^*.

      • KCI등재

        He-Ne 레이저를 기준광원으로 활용한 분광사진 분석 방법의 개발

        전부,전영석 한국물리학회 2010 새물리 Vol.60 No.10

        분광기에 의한 빛의 스펙트럼을 정량적으로 분석하는 새로운 방안을개발하였다. 이 방법에서는 측정 대상 광선과 레이저 광선이 함께Grating에 의해 회절되도록 함으로써 회절된 레이저 광선에 의한 spot을파장 측정의 기준으로 잡을 수 있도록 하였다. 스펙트럼 분석은 먼저스펙트럼 사진을 찍은 다음, 컴퓨터 프로그램을 통해 밝기를 구하는방식으로 실시하였는데, 나트륨, 아르곤, 수소 광원에 대한 시험 분석결과 오차율이 3% 이내로 매우 정확한 결과를 얻었다. 특히 새로운방법은 대조스펙트럼 등을 사용할 필요없이 한 번의 사진촬영으로도원하는 결과를 쉽게 얻을 수 있으며 실험장치를 저렴하고 간단하게구성할 수 있다는 장점이 있기 때문에 빛과 색깔에 대한 개념 및 빛과물질의 상호작용 등의 학습에 매우 유용하게 활용할 수 있을 것으로기대된다. In this study, we developed a new method to analyze a spectrum quantitatively. In this way a beam of laser is used to be diffracted by the grating in the spectrometer with the light to be analyzed, so that the spot of the diffracted beam can be used as a reference for the wavelength measurement. We first took a photo of the spectrum and then acquired a graph of intensity vs. wavelength by a computer program. Each test using sodium, argon, and hydrogen discharge tube showed a very precise result within the measurement uncertainty of 3%. Especially, the new method does not have to use another light source as a reference, so it does not need multiple spectrum pictures. This is expected to be used in various experiments about fundamental conception of light and colour or interaction between light and matter.

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