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정연태 ( Yeon Tae Jeong ),이은주 ( Eun Ju Lee ),박정영 ( Jeong Yeong Park ) 한국화상학회 2001 한국화상학회지 Vol.7 No.2
황 산발생제와 산에 민감한 고분자로 구성된 화학증폭형 포토레지스트에 산 증식제를 첨가하면 산 증식제의 분해에 의한 산 촉매 분자의 증폭 현상 때문에 감도가 향상되는 결과를 얻을 수 있다. 우리는 새로운 산 중식제로 4-hydroxy-4`-tosyloxy isopropylidene dicyclohexane(AA-1)과 4,4`-ditosyloxy isopropylidene dicyclohexane (AA-2)를 합성하고 평가하였다. 산 증식제는 (AA-1, AA-2)는 레지스트 공정 온도에 대하여 충분한 열적 안정성을 나타냈다. AA기 또는 AA-2를 첨가한 tert-Butyl methacrylate homopolymer(PtBMA) filmdms 산 증식제를 사용하지 않은 경우보다 감도가 약 2배 ~ 4배정도 증진되었다. 그리고 AA-1은 AA-2에 비해 PtBMA film의 감도증진에 더 효과적임을 알 수 있었다. The addition of the acid amplifier to a chemically amplified photoesist consisting of photoacid generator and acid-sensitive polymer results in the improvement of photosensitivity due to the amplified generation of catalytic acid molecules as a result of the decomposition of acid amplifiers. We synthesized and evaluated 4-hydroxy-4`-tosyloxy isopropylidene dicyclohexane(AA-1) and 4,4`-ditosyloxy isopropylidene dicyclo-hexane (AA-2) as novel acid amplifiers. The acid amplifiers(AA-1, AA-2) showed reasonable thermal stability for resist processing temperature. tort-Butyl methacrylate hompolymer(PtBMA) film doped with AA-1 or 2 exhibited much higher photosensitivity than PtBMA film without AA-1 or 2. And AA-1 showed higher effect than AA-2 on enhancing photosensitivity of PtBMA film.