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이환철,김동원,황혜정,김부미,김선희,이형주 한국학교수학회 2013 韓國學校數學會論文集 Vol.16 No.4
본 연구는 수학교육 선진화 방안(‘12.1)에 따라 중 고등학교 수학교사가 내신 평가문항을 출제함에 있어 유념해야할 개발 절차를 안내하는 것을 목적으로 하였다. 연구 결과, 평가문 항 개발 가이드라인을 크게 ‘지도 내용 분석 과정’, ‘평가 문항 구성 과정’, ‘평가 문항 완성 과정’으로 범주화하여 제시하였다. 본 연구의 적용 과정에서 연구 결과가 수학교사의 평가전 문성 신장에 기여할 것이며 교사의 평가문항 출제 후 자기진단 도구로도 활용될 수 있음을 확인하였다. This study aims to suggest a Guide-Line for Assessment Items Development in Middle and High School Mathematics that was included in the plan for advancement of mathematics education(2012). Consequently, we categorized a Guide-Line for Assessment Items Development as three process: 'Lesson content analysis process', 'Assessment items making process', 'Assessment items completed process'. This study will contribute to improve teacher's assessment professionalism and can be used as self-diagnosis tools.
이환철,하영화,Lee, Hwan-Chul,Ha, Young-Hwa 한국학교수학회 2011 韓國學校數學會論文集 Vol.14 No.3
중학교 기하 영역에서 엄밀하고 형식적인 정당화로서 증명에 대한 여러 연구가 있어왔고 교육과정의 변화와 함께 증명은 지속적으로 수준을 약화하여 왔다. 2009 개정 교육과정에 따른 중학교 수학과 교육과정에서는 증명이라는 용어를 삭제하고 정당화의 의미로서 '이해하고 설명 할 수 있다'는 문장을 사용함으로써 실질적인 증명 약화를 꾀하고 있다. 이에 본 연구에서는 현재 중학교 수학 교과서의 기하 영역을 분석함으로써 구체적이고 현실적인 정당화의 사례를 제시하는 것에 목적을 두었다. 분석 결과 증명이 중학교 2학년에서 등장함에 비해 학생들의 인지 상태를 고려하여 사용할 수 있는 정당화의 유형들이 사용되지 않았음을 확인하였고, 중학교 1, 2, 3학년 수학교과서에 제시된 다양한 예로부터 새로운 교육과정에 따른 교과서에서 사용할 수 있는 정당화의 사례를 확인하였다. There have been several studies regarding strict and formal proof in the field of geometry in middle school curriculum, and the level of proof has been gradually lowered along with the changes in the curriculum. In the 2011 Revised Middle School Math Curriculum, there have been efforts to eliminate the term 'proof' and instead to replace it with the new one, 'justification'. Therefore, this study intends to present specific and practical examples of justification by analyzing the current math textbook especially in the field of geometry. As a result, it identified that strict and practical proof has been sharply increased in the second year of middle school. It also witnessed the possibility of justification from the various examples presented in the first, second, and the third year of the middle school math textbook.
수학교육 관련 교사 연수 현황 분석을 통한 정책 방안 모색
이환철,장미숙 한국학교수학회 2012 韓國學校數學會論文集 Vol.15 No.1
본 연구는 수학교육 관련 교사 연수 현황을 분석하고 정책적 보완 방안을 모색하고 하였다. 이를 위해 16개 시도교육청으로부터 2010년, 2011년 수학교육 관련 교사 연수 현황 자료를 제출받아 분석하였다. 연구 결과, 시도교육청 연수 담당자 협의회를 통해 연수의 양적 질적 성장을 도모해야 하고, 연수대상자 특성에 적합한 맞춤형 연수 프로그램이 개발 보급되어야 하며, 필요한 경우 의무 연수와 같은 정부의 정책적 지원이 필요함을 알 수 있었다.
수학적 사고의 발달 메커니즘에 기초한 교과서 분석 연구
이환철,강옥기 한국학교수학회 2011 韓國學校數學會論文集 Vol.14 No.2
수학적 사고는 많은 학자들의 관심사항이었으며 지속적으로 강조되고 있는 주제 중 하나이다. 특히 우리나라 수학과 교육과정에서는 학생들의 수학적 사고 신장을 위한 교수 학습을 강조하고 있다. 본 연구에서는 수학적 사고의 발달 메커니즘을 정의하고 이를 중심으로 하여 2007 개정 수학과 교육과정에 따른 수학 교과서를 분석하였다. 분석 결과 수학 교과서 집필자와 수학 교사는 학습해야 할 개념이 개념의 발달 과정의 어느 위치에 있는 개념이며, 어떠한 과정으로 발생하는지에 대한 면밀한 분석을 할 필요가 있으며, 이러한 요소를 반영되기 위해서 학습해야 할 개념과 관련된 개념의 흐름을 학생들에게 제시하고, ‘개념 만들기’ 등과 같이 미래의 학습 개념을 추측해 볼 수 있는 활동을 제공해야 한다는 결론을 얻었다.
Exploring the Future Direction of Math Education in AlgeoMath
이환철 영남수학회 2019 East Asian mathematical journal Vol.35 No.4
The Korea Foundation for the Advancement of Science and Creativity(KOFAC) developed AlgeoMath, a dynamic geometry software, with support from the Ministry of Education and 17 municipal and provincial education offices. Starting Nov. 7, 2018, AlgeoMath can be used for free by anyone. This study summarizes various discussions on the future direction of math education. The four aspects of the curriculum, textbook, teaching and learning, and assessment were explored on how AlgeoMath could contribute in realizing the future direction of math education. We confirmed that AlgeoMath can faithfully fulfill its role as a tool for changing math education, and we looked at what should be emphasized more and what should be complemented.
이환철,양재웅,안재우 대진대학교 1995 大眞論叢 Vol.3 No.-
The etching characteristics of r.f.-sputtered permalloy magnetic thin films using ion beam apparatus are investigated. The process parameters investigated during ion beam etching are accelerating voltage, beam voltage and beam current. The etch rate of the permalloy films is proportion to the beam current, but it is not directly related to the accelerating voltage and beam voltage. The dependence of etch rate on the process parameters can be explained by the ion beam current density. It is found that the ion beam etching is on effective method in obtaining well-developed micropatterns on the permalloy thin films.