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Indium-Morin 착물에 관한 흡착벗김전압전류법적 연구
손세철,엄태윤,하영경,정기석,Se Chul Sohn,Tae Yoon Eom,Yeong Kyeong Ha,Ki-Suk Jung 대한화학회 1991 대한화학회지 Vol.35 No.5
In-Morin 착물에 대한 흡착벗김전압전류법적 연구를 HMDE를 사용하여 pH 3.20의 0.1M 아세테이트 완충용액에서 수행하였다. 흡착 현상들을 미분펄스전압전류법으로 관찰하였으며, HMDE의 표면에 흡착된 착물의 환원 전류에 미치는 여러 분석 조건들에 과하여 논의하였다. 또한 여러 다른 금속이온들과 계면활성제의 방해효과에 관해서도 검토하였다. 본 연구에서의 검출한계는 90초의 흡착시간을 적용하였을 때 2.6nM이었으며, 4${\mu}g$/l의 In을 7회 분석하였을 때 상대표준편차는 2.0%이었다. A sensitive adsorptive stripping voltammetric study was investigated on the complex of indium with morin at a hanging mercury drop electrode in 0.1 M acetate buffer (pH 3.20) solution. The adsorption phenomena were observed by differential-pulse voltammetry. The effects of various analytical conditions were discussed on the reduction peak current of the adsorbed complex on the surface of HMDE. Interferences by other trace metals and surfactant were also discussed. Detection limit was 2.6 nM of indium after 90 second deposition time, and the relative standard deviation (n = 7) at 4${\mu}g$/l indium was 2.0%.
손세철,엄태윤,Se Chul Sohn,Tea Yoon Eom 대한화학회 1992 대한화학회지 Vol.36 No.6
Ga-Morin 착물에 대한 흡착벗김전압전류법적 연구를 HMDE를 사용하여 0.1M 아세테이트 완충용액에서 연구하였다. HMDE의 수은 표면에 흡착된 착물의 환원피크 전류에 미치는 여러 분석조건들의 영향을 논의하였으며, 여러 양이온 및 계면활성제의 방해효과에 대하여 검토하였다. 본 연구에서의 검출한계는 흡착시간이 60초일 때 1.7nM 이었으며, 4 ${\mu}$g/l의 Ga를 7회 분석하였을 때 상대표준편차 2.8% 이었다. A very sensitive adsorptive stripping voltammetric method is studied on the gallium-morin complex at a hanging mercury drop electrode (HMDE) in 0.1 M acetate buffer solution. The effects of various analytical conditions are discussed on the reduction peak current of the adsorbed complex on the suface of HMDE. Interferences by other trace metals and surfactant are also discussed. Detection limit is 1.7 nM of gallium with 60 seconds deposition time, and the relative standard deviation (n = 7) at 4 ${\mu}$g/l gallium is 2.8%.
Tin(Ⅱ)-Cupferron 착물에 대한 음극벗김전압전류법적 연구
손세철,서무열,지광용,최인규,Sohn, Se Chul,Seo, Moo Yul,Jee, kwang Yong,Choi, In kyu 대한화학회 1995 대한화학회지 Vol.39 No.1
Sn(II)-cupferron 착물에 대한 펄스차이 음극벗김 전압전류법적 연구를 pH 4.20의 0.1 M 아세트산 완충용액에서 수행하였다. 수은전극 표면에 흡착된 Sn(II)-cupferron 착물의 환원피크전류 크기에 미치는 용액의 pH, 착화제의 농도, 축적전위 및 축적시간의 영향을 검토하였다. 또한 Sn(II)-cupferron 착물의 환원피크전류에 영향을 주는 다른 금속 양이온들의 방해효과도 검토하였다. 이 방법에 의한 Sn(II)의 검출한계는 축적시간을 60 sec로 하였을 때 $3.1{\times}10^{-9}$ M(0.37 ppb)이었으며, $5{\times}10^{-8}$ M의 Sn(II) 분석에 대한 상대표준편차(n=8)는 3.0%이었다. Differential-pulse cathodic stripping voltammetry was applied to the Sn(II)-cupferron complex in 0.1 M acetate buffer solution (pH 4.20). Effects of solution pH, ligand concentration, accumulation potential, and accumulation time on the reduction peak current for the adsorptive complex of Sn(II)-cupferron were investigated. Interferences by other metal cations that affected on reduction peak current were also discussed. The detection limit was 3.1${\times}$10-9 M (0.37 ppb) of Sn(II) with 60 seconds accumulation time. The relative standard deviation (n=8) for 5${\times}$10-8 M Sn(II) was 3.0%.
Uranium(Ⅵ)-Cupferron 착물의 네모파 전압전류법적 연구
손세철,서무열,엄태윤,최인규,Son, Se Cheol,Seo, Mu Yeol,Eom, Tae Yun,Choe, In Gyu 대한화학회 1994 대한화학회지 Vol.38 No.3
uranium(VI)-cupferron 착물에 대한 네모파 전압전류법적 연구를 pH5.0의 0.1M아세트산 완충용액에서 수행하였다. 네모파 전압전류법을 이용한 미량의 우라늄 정량과 분석시의 최적조건에 대해 검토하였다. Uranium(VI)-cupferron 착물의 환원반응은 반응물만이 전극 표면에 흡착되는 비가역적인 과정으로 진행되는 반응임을 알 수 있었다. Uranium(VI)의 검출한계는 -0.1 V vs. Ag/AgCl에서 흡착시간을 30sec로 하였을 때 7.9nM(2 ppb)이었으며, 전극 표면에 흡착된 uranium(VI)-cupferron착물의 양은 ${\Gamma}_{max} = (4.9{\pm}0.3){\times}10^{-10} mol{\cdot}cm^{-2}$이었다 Square-wave voltammetric behavior for uranium(VI)-cupferron complex was studied in 0.1 M acetate buffer solution(pH5.0). The optimum condition for square-wave voltammetric analysis of uranium was also investigated. The reduction of uranium(VI)-cupferron complex was found to be irreversible and only uranium(VI)-cupferron complex was adsorbed on the electrode surface during the deposition time. Detection limit of uranium(VI) was 7.9nM(2 ppb) where the deposition time was 30sec at -0.1 V vs. Ag/AgCl. The amount of uranium(VI)-cupferron complex adsorbed on the electrode surface was ${\Gamma}_{max} = (4.9{\pm}0.3){\times}10^{-10} mol{\cdot}cm^{-2}$.
카드뮴-Oxalate-Citrate계의 혼합 리간드 착물에 대한 미분펄스폴라로그라피적 연구
손세철,엄태윤,정기숙,Se Chul Sohn,Tae Yoon Eom,Jung Key-Suk 대한화학회 1989 대한화학회지 Vol.33 No.6
25${\circ}$C, 용액의 이온세기 ${\mu}$= 1.0($NaNO_3$) 및 pH 8.0인 조건하에서 카드뮴 -Oxalate-Citrate계의 단일 및 혼합 리간드 착물에 관한 연구를 미분펄스폴라로그라피적으로 수행하였다. DeFord-Hume 및 Schaap-McMasters의 도표법을 이용하여 단일 및 혼합 리간드 착물의 안정도상수 값을 구하였다. $log\beta_{11}$, $log\beta_{12}$ 및 $log\beta_{21}$값은 각각 4.91, 4.99와 5.18이었으며 이들 값으로부터 혼합 리간드 착물계의 여러 평형관계 등을 논의하였다. The simple and mixed ligand complexes of cadmium-oxalate-citrate systems have been studied with differential pulse polarography at 25${\circ}$C, in the solution with constant ionic strength, ${\mu}$= 1.0 ($NaNO_3$) and pH 8.0. Using the graphical methods by DeFord-Hume and Schaap-McMasters, the overall stability constants for the mixed ligand complexes, $\beta_{ij}$, were found to be: $log\beta_{11}$ = 4.91, $log\beta_{12}$ = 4.99, and log $log\beta_{21}$ = 5.18, respectively. Various equilibria involved in the mixed system have also been discussed.