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마이크로웨이브 공진 공동을 이용한 플라즈마 원의 설계 및 특성
김현태,박용신,성충기,이재령,황용석,Kim, H.T.,Park, Y.S.,Sung, C.K.,Yi, J.R.,Hwang, Y.S. 한국진공학회 2008 Applied Science and Convergence Technology Vol.17 No.5
본 논문에서는 집속이온빔의 플라즈마원을 위한 간단한 직육면체형태의 공진 공동을 설계하고 특성연구를 수행하였다. 공진에 최적인 공동 구조는 HFSS(High Frequency Structure Simulator)를 이용한 전기장 분포를 통해 구체적으로 계산하였다. 공진 공동은 내부 석영관 및 플라즈마 등의 유전체의 영향을 받기 때문에 공동의 한축 길이를 변화시킬 수 있는 구조로 설계되었다. 실험적으로 관찰되는 마이크로웨이브 방전시작전압을 통해 방전에 최적인 공동 길이를 측정하여 HFSS 계산된 값과 비교하였다. 공동은 석영관으로 인한 내부 유효유전율의 변화에 의해 석영관을 고려하지 않았던 길이에 비해 10cm가 감소된 길이에서 최적화됨을 공통적으로 확인할 수 있었다. 또한 압력변화에 따른 방전시작전압은 Paschen Curve와 유사한 결과를 나타내었다. 방전이 발생한 후에는 입력전력에 따라 플라즈마 밀도가 증가하였고 플라즈마의 영향으로 감소한 유효유전율에 의해 10cm가 증가한 길이에서 최적화가 되었다. 하지만 300W이상의 높은 입력 전력에서는 마이크로웨이브가 투과할 수 없는 고밀도 플라즈마 경계층(cut off layer)이 확장하여 더 이상 공동길이 조절을 통한 공동 최적화가 불가능함을 확인하였다. 따라서 고밀도 플라즈마를 만들기 위한 마이크로웨이브 공동의 정확한 설계를 위해 마이크로웨이브가 통과할 수 없는 고밀도 플라즈마 영역을 도체로 가정하고 그 외의 저밀도 플라즈마 영역을 밀도에 고유한 특정 유전율을 가지는 유전체로 설정하여 공동 내부의 전기장 분포를 해석하는 과정이 꼭 필요하다. The rectangular resonant cavity was designed and characterized as a microwave plasma source for focused ion beam. The optimum cavity was calculated analytically and analyzed in detail by using HFSS(High Frequency Structure Simulator). Since the resonant cavity can be affected by the permittivity of quartz chamber and plasma, the cavity is designed to be changeable in one direction. By observing the microwave input power at which the breakdown begins, the optimum cavity length for breakdown is measured and compared with the calculated one, showing in good agreement with the optimum length reduced by 10cm according to the permittivity change in the presence of quartz chamber. The shape of breakdown power curve as a function of pressure appears to be similar to Paschen-curve. After breakdown, plasma densities increase with microwave power and the reduced effective permittivity in the cavity with plasma results in larger optimum length. However, it is not possible to optimize the cavity condition for high density plasmas with increased input power, because too high input power causes expansion of density cutoff region where microwave cannot penetrate. For more accurate microwave cavity design to generate high density plasma, plasma column inside and outside the density cutoff region needs to be treated as a conductor or dielectric.
PSII 펄스 시스템의 동적 플라즈마 부하 회로 모델 개발
정경재,최재명,황휘동,김곤호,고광철,황용석,Chung, K.J.,Choe, J.M.,Hwang, H.D.,Kim, G.H.,Ko, K.C.,Hwang, Y.S. 한국진공학회 2006 Applied Science and Convergence Technology Vol.15 No.3
음의 고전압의 인가에 따라 반응하는 동적 플라즈마를 부하로 갖는 PSII(plasma source ion implantation) 펄스 시스템을 분석하기 위한 회로 모델을 개발하였다. 플라즈마 내에 삽입된 평판 전극 앞에서의 플라즈마 쉬스의 움직임은 동적 차일드-랑뮤어 쉬스 모델을 따르는 것으로 가정하였다. 표적 전극에 흐르는 전류는 전극에 인가되는 전압과 서로 영향을 주며 변하므로 동적 플라즈마 부하를 전압 의존 전류 원으로 표현하여 자기모순이 없는 회로 모델을 구현하였다. 회로 해석은 Pspice 프로그램을 이용하여 수행하였으며, 다양한 플라즈마 조건과 펄스인가 조건에서의 실험 결과와 비교하여 회로 모델의 타당성을 검증하였다. A circuit model has been developed to analyze characteristics of the PSII(plasma source ion implantation) pulse system with dynamic plasma load. The plasma sheath in front of the immersed planar target biased with a negative-high voltage pulse is assumed to be governed by the dynamic Child-Langmuir sheath model. Target current is self-consistently varied with the applied voltage by using the voltage-controlled current source in the circuit model. Circuit simulations are conducted with Pspice circuit simulator, and simulated pulse currents and voltages on the target are compared and confirmed with experimental results for various voltage pulses and plasma conditions.
Design of compact microwave plasma ion sources for focused ion beam
Yeong-Shin Park(박용신),H.T. Kim(김현태),Y.S. Hwang(황용석) 대한기계학회 2008 대한기계학회 춘추학술대회 Vol.2008 No.5
Two types of compact microwave plasma ion sources (MWPIS) for focused ion beam (FIB) have been developed. Cavity resonator type plasma ion source is subjected to make resonant electric field in order to ignite plasma efficiently. The optimum length of resonator and antenna, and position of quartz and antenna have been designed by both simple calculation and computer simulation. The other source consists of a cylindrical dielectric discharging chamber and an insulated co-axial antenna. To maximize electric field inside discharge chamber, both shape and length of antenna are determined. A magnet system is designed to provide the resonant magnetic field for electron cyclotron plasma.
논문 : 고전압 펄스 방전을 이용한 지하수 관정 스크린 공막힘 재생법 연구
정경재 ( Kyoung Jae Chung ),이석근 ( Seok Geun Lee ),당정증 ( Jeong Jeung Dang ),최길환 ( Gil Hwan Choi ),황용석 ( Y S Hwang ),김철영 ( Chul Young Kim ),박영준 ( Young Jun Park ) 대한지질공학회 2013 지질공학 Vol.23 No.1
스크린 공막힘에 의하여 채수량이 감소된 지하수 관정은 여러 방법을 통하여 재생시켜주면 지하수 채수량을 개선시켜 관정의 수명을 연장할 수 있다. 본 논문에서는 화약이나 압축 유체를 사용하는 기존의 공막힘 재생기술을 대신할 수 있는 고전압 펄스 방전에 의한 지하수 관정 스크린 공막힘의 재생법에 대하여 연구하였다. 본 기술은 수중에 삽입된 전극에 순간적으로 고전압의 전기에너지를 주입하여 이 때 전극 사이에서 발생하는 고온, 고압의 플라즈마의 팽창력에 의하여 발생하는 수중 충격파를 이용하는 기술로, 기존 기술 대비 취급이 용이하며 구조가 간단하고 충격압의 크기 조절이 용이하다는 장점을 갖는다. 본 연구에서는 축전기 방전형 펄스 발생장치를 사용하여 약 200 J의 전기에너지를 수중에 삽입된 전극에 순간적으로 주입함으로써 전극으로부터 6 cm 떨어진 곳에서 약 10.7MPa의 수중 충격압을 얻었다. 이 충격압의 크기는 축전기의 충전 전압을 바꿔줌으로써 손쉽게 조절이 가능하였으며, 다양한 전압에서의 실험을 통하여 방전 전류의 첨두치와 선형적인 관계를 갖고 있음을 알았다. 또한 지하수 관정에 사용되는 스크린과 유사한 시료에 대한 모의실험을 통하여 이 기술을 이용한 지하수 관정의 세척 가능성을 확인하였다. The application of appropriate rehabilitation methods can improve the efficiency of clogged wells and extend their life. In this paper, we study the feasibility of well cleaning using high-voltage pulsed discharge, in which electrical energy is used to produce impulsive pressure in water, in contrast to conventional methods that employ chemical or pneumatic energy sources. This technique utilizes the compressive shock wave generated by the expansive force of hot, dense plasma that is produced during a pulsed discharge in the gap between electrodes immersed in water. Compared with conventional techniques, this method is simple, and easy to handle and control. Using a capacitive pulsed power system with an electrical energy of 200 J, an impulsive pressure of 10.7 MPa is achieved at the position 6 cm away from the discharge gap. The amplitude of the impulsive pressure was easily controlled by adjusting the charging voltage of the capacitor and was almost linearly proportional to peak discharge current. The technique achieved good results in cleaning feasibility tests with mock-up specimens similar to clogged well screens.