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객체 지향 데이타베이스 관리 시스템에서의 사용자 인터페이스 설계 및 구현
전용석(Yong Suk Jun),김태권(Tae Gwon Kim),유석인(Suk I Yoo) 한국정보과학회 1991 한국정보과학회 학술발표논문집 Vol.18 No.2
객체 지향 데이타베이스 관리 시스템은 데이타베이스 관리 시스템의 기법과 객체 지향 프로그래밍 기법을 통합하는 시스템이다. 본 논문에서는, 객체 지향 데이타베이스 관리 시스템의 사용자 인터페이스 언어로 pC++를 설계하였다. 이 pC++는 객체 지향 프로그래밍 언어인 C++에 객체 지향 데이타 모델의 개념을 도입하여, 기존의 데이타베이스 관리 시스템에서의 결합 불일치 문제를 해결한다. 또, C++의 계산 능력과 타입 검사 등의 기능을 이용하여 데이타의 처리 능력과 생산성을 향상시킨다. 그리고, 객체 지향 데이타 모델 상에서의 사용자 인터페이스 유틸리티들을 pC++로 X 윈도우 상에서 구현하였다.
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전용성(Yong-Sung Jun),안승혜(Seung-Hye Ahn),권정휘(Jeong-Hwi Kwon),박병권(Byong-Kwon Park) 대한기계학회 2012 대한기계학회 춘추학술대회 Vol.2012 No.11
This paper describes on the technology to improve construction quality and reliability by creating a new plastic pipe on the inside of the pipeline applying the trenchless for repairing construction. In this study, procedures of hardening process for repairing a pipeline system are the re-lining of the thermosetting resin impregnated nonwoven materials into the pipeline by fluid pressure, while insertion and inversion pipe lining to the internal curing, and thermosetting resin impregnated tube lining re-heated with hot water while the inner section of the aging pipeline. The main factors for the application of this repairing construction are pipe line diameter, plate thickness, impregnated thermosetting resin using unsaturated polyester, and the outer surface of the plastic using polyethylene or polyurethane. Through the improvement of lining material, impregnating method, and repairing construction technology, we can expect to improve the reliability of construction quality, shorten construction period and construction cost savings. Detailed the characteristics of this study are also analyzed and discussed.
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연구논문 : Photo shop을 이용한 분장디자인 -무대공연 카르멘을 중심으로-
전용수 ( Yong Su Jun ) 한국미용학회 2006 한국미용학회지 Vol.12 No.3
Stage make-up design was presented in this study to suggest effective make-up design. That is, they include character analysis, make-up operations plan, make-up design, actual make-up operations in order to make visual and drastic effect, photo shop program was conducted in this study. A theoretical investigation and character analysis concerner about stage make-up was ad follows; 1. conducted stage make-up design using photo shop program 2. emphasized character`s personality through stage make-up design 3. extremed visual effect of make-up to stress designing feature. Lastly, new possibrity of make-up design could be suggested, through photoshoped stage make-up design.
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병렬 루프 프로그램의 오류 수정을 위한 수행중 이상 탐지
전용기(Yong-Kee Jun),고건(Kern Koh) 한국정보과학회 1993 정보과학회논문지 Vol.20 No.6
병렬 프로그램의 오류 수정 작업이 순차 프로그램에 비해 어려운 일반적인 원인은, 공유 변수에 병렬로 접근 가능한 타스크들에 의해 초래되는 비결정적 수행 양상 때문이다. 이러한 접근 이상들을 효과적으로 탐지해내기 위한 방법으로서, 프로그램의 수행 중에 변수들에 대한 접근 명령들을 감시하여 분석할 수 있다. 수행중 탐지 기법은 프로그램의 수행 후에 분석하는 기법들에 비해 기억 장소는 훨씬 적게 드나 수행 시간의 부담이 크다. 본 연구는 다중 수준으로 단일 내포 가능한 병렬 루프 프로그램의 수행 중에 접근 이상들을 탐지하기 위한 효율적인 기법을 보인다. It is more difficult to debug erroneous parallel programs than sequential programs, since they usually show nondeterministic behaviors which are from anomalies incurred by parallel tasks accessing shared variables. To detect access anomalies effectively, one can utilize the technique that monitors a program execution to detect instructions accessing shared variables in parallel. Compared with post-mortem techniques to detect access anomalies, it is still less expensive in storage space, but not in time. An efficient technique presented here attempts to detect the anomalies at a constant cost during an execution of parallel loop programs which can be nested in one way and multiple levels.
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전용철(Jun, Yong-Cheul) 동아대학교 법학연구소 2014 東亞法學 Vol.- No.62
특허성 요건으로서 진보성의 판단시 객관성을 유지하기 위하여 기술적 사항에 기초하여 청구된 발명과 선행기술을 대비판단 하도록 하는 것이 실무상 확립되어 왔으나, 진보성 판단에 있어서 기술적 사항만을 고려하는 것은 출원일 이후 진보한 기술적 상황에 노출된 자가 선행기술을 파악하고 모든 것을 이해한 후 비로서 진보성을 판단하게 되는 사후적 고찰의 위험성을 높인다는 문제가 있다. 진보성 판단에 있어서 비기술적 사항인 상업적 성공, 산업적 찬사 및 예상밖의 결과, 모방, 산업적 회의론, 기술이전, 장기간 미해결된 요구 등에 대한 2차적 고려요소를 반영하는 것은 사후적 고찰의 문제를 극복하고 발명의 진정한 실체를 파악하는데 유용할 수 있다. 미국에 비하여 우리나라에서는 발명의 진보성을 판단함에 있어서 2차적 고려요소를 반영하는데 상당히 소극적인 것으로 보인다. 산업적으로 의미있는 발명을 특허로서 보호함에 있어 그 대상과 범위를 확장하면서도 진보성 판단시의 사후적 고찰을 방지하기 위하여, 앞으로의 심결 또는 판결 등을 통해 진보성 판단시 2차적 고려요소의 반영 기준과 특허권자가 입증이 필요한 사항을 정리 및 구체화할 필요가 있다고 본다. 본 논문에서는 2차적 고려 요소에 의해 특허 발명의 비자명성이 인정되어 원심 판결이 파기 환송된 사례로서 트랜스오션 오프쇼어 딥워터 드릴링사 대 머스크 드릴링 유에스에이사의 미국 연방항소법원 판결을 살펴보고, 2차적 고려 요소를 반영한 진보성 판단에 관하여 분석하였다. 트랜스오션 오프쇼어 딥워터 드릴링사 대 머스크 드릴링 유에스에이사의 미국 연방항소법원 판결은 진보성 판단시 2차적 고려요소의 반영 기준을 마련하는데 있어서 참조될 수 있을 것으로 본다.
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반도체집적회로 배치설계의 업무상 창작자 지위 인정과 종업원 보상에 대한 소고
전용철(Jun, Yong-cheul) 동아대학교 법학연구소 2016 東亞法學 Vol.- No.72
반도체집적회로의 배치설계에 관한 법률 제5조는 ‘업무상 창작한 배치설계의 창작자를 계약이나 근무규정 등에 달리 정한 것이 없으면 그 법인 등을 배치설계의 창작자로 한다’고 정하고 있어, 업무상 창작된 배치설계권의 경우 사용자가 원칙적으로 창작자 지위를 귀속 받게 된다. 따라서, 사용자는 업무상 창작된 배치설계권을 보유하고 권리를 행사할 수 있을 것이나, 실제 창작행위를 한 종업원은 반도체 배치설계 보호법만에 기초하여서는 보상을 받을 수 없다. 국가연구개발사업의 연구개발성과로서 배치설계권이 설정 등록되는 경우 기술의 이전 및 사업화 촉진에 관한 법률, 국가연구개발사업의 관리 등에 관한 규정에 따른 연구자 보상을 받을 수 있는 것과 대비된다. 최근 배치설계권의 설정등록 비중이 대기업은 줄어들고 대학은 늘어나는것으로 파악되는데, 반도체 산업의 구조와 특수성을 감안할 때 반도체 산업에서 비중이 매우 높은 기업체들에 의한 배치설계권 설정등록 건수가 많아지도록 유도할 필요가 있다고 본다. 이와 관련하여, 업무상 배치설계를 창작한 종업원에게 창작자 지위를 인정하고 창작에 따른 보상을 할 수 있도록 반도체 집적회로의 배치설계에 관한 법률이 개선될 수 있다면, 반도체 업체들에 의한 반도체집적회로의 배치설계에 관한 법률의 이용률을 제고할 수 있을 것으로 본다. 본 논문에서는 업무상 창작된 배치설계의 창작자 지위가 사용자에게 귀속되는지 여부를 위주로 국가별로 반도체 집적회로의 배치설계를 보호하기 위한 법률의 규정을 살펴보았다. 또한, 본 논문에서는 배치설계가 업무상 창작되는 경우 실제 창작행위를 한 종업원 등에 대한 보상이 가능한지를 살펴보았으며, 반도체집적회로의 배치설계에 관한 법률 제5조의 수정이 필요하다는 의견을 제시하였다. Article 5 of the Act on the Layout-Designs of Semiconductor Integrated Circuits provides that “With respect to a layout-design by a person employed by a government, a corporation, an association or other employer (hereinafter referred to as “corporation, etc”), the corporation, etc. is deemed to be the creator, unless otherwise provided in an agreement or an employment regulation and the like”. Pursuant to this provision, the position as a creator is in principle vested in the employer of the person who created the layout-design in service. Accordingly, the employer can own a right to the layout-design created in service and also exercise the right; however, no compensation is given to the employee who actually created the layout-design, only based on the laws associated with the semiconductor layout-design protection. This is compared with layout-designs created in national research & development (R & D) projects. In national R & D protects, if, as the R & D output, a layout-design is registered and accordingly a layout-design is established, the researcher who created the layout-design can receive compensation based on the Technology Transfer and Commercialization Promotion Acct and the Regulations on Management of National Research and Development Projects. Recently, it has been noted that the number of layout-design registrations by large companies has been reduced; conversely, that of layout-design registrations by the colleges and universities has increased. Considering structure and specialty of the semiconductor industry, it appears that it is necessary to induce those companies being of great importance in the semiconductor industry to increase the number of layout-design registrations. In this connection, it is seen that, if the Act on the Layout-Designs of Semiconductor Integrated Circuits is improved to recognize the employee who created the layout-design in service as a creator of the layout-design and to compensate him/her for the creation, the availability of the Act on the Layout-Designs of Semiconductor Integrated Circuits by the semiconductor companies would be enhanced. For this Paper, I have reviewed the laws and regulations to protect the layout-designs of the semiconductor integrated circuits by each country, based on whether the position as a creator of the layout-design created in service is vested in the employer. In addition, I have reviewed whether compensation can be given to the employee who actually performed the act of creating a layout-design if the layout-design was created in service, and whether it is necessary to revise Article 5 of the Act on the Layout-Designs of Semiconductor Integrated Circuits.
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