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      방사형 보드를 이용한 웨이퍼 위치 오차 검출 시스템

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      https://www.riss.kr/link?id=A82577293

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      국문 초록 (Abstract)

      본 논문에서는 컴퓨터 비젼을 이용하여 웨이퍼 위치 에라를 측정하는 방법을 제시한다. 웨이퍼란 반도체를 생산하는 과정에 필요한 재료중의 하나이다. 반도체 제작 과정 중 화학 약품 처리...

      본 논문에서는 컴퓨터 비젼을 이용하여 웨이퍼 위치 에라를 측정하는 방법을 제시한다. 웨이퍼란 반도체를 생산하는 과정에 필요한 재료중의 하나이다. 반도체 제작 과정 중 화학 약품 처리로 인한 웨이퍼 세척과정이 필요하다. 이 때 웨이퍼가 클리닝 시스템 속에서 정 위치에 놓여지지 않는 경우가 발생 한다. 이러한 경우가 발생하면 웨이퍼가 파손 되거나 클리닝 시스템 고장의 원인이 된다. 이러한 사고를 미연에 방지 하기 위하여 컴퓨터 비젼 및 방사형 보드를 이용한 켈리브레이션 기술을 이용하여 실시간으로 웨이퍼의 위치를 파악하는 프로그램을 만들고자 한다.

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      목차 (Table of Contents)

      • 요약
      • 1. 서론
      • 2. 시스템의 구성
      • 3. 방사형 보드를 이용한 켈리브레이션
      • 4. 영상 처리릍 통한 웨이퍼 중심점 추출
      • 요약
      • 1. 서론
      • 2. 시스템의 구성
      • 3. 방사형 보드를 이용한 켈리브레이션
      • 4. 영상 처리릍 통한 웨이퍼 중심점 추출
      • 5. 실험 결과 및 향후 계획
      • 참고문헌
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