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2009년
eng
0093-3813
1939-9375
SCI;SCIE;SCOPUS
학술저널
IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE
1774-1781 [※수록면이 p5 이하이면, Review, Columns, Editor's Note, Abstract 등일 경우가 있습니다.]
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Special Issue on Advances on Plasma Processing for Semiconductor Manufacturing
Charge and Potential Distributions for Particles Approaching Substrates With Regular Structures
Micro- and Mesostructures in Plasma Polymers of Trichloroethylene