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Lithographic Pattrerning with Block Copolymers
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Elimination of Resist Poisoning in Via-First Dual Damascene Processes
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Novel Rinse Liquid for sub-90nm Lithography
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Performance of Supercritical Resist Drying in Improving Practical Resolution Limit
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Use of Interferometric Lithography to Characterize the Spatial Resolution of a Photoresist Film
Hoffnagle, J. A.; Hinsberg, W. D.; Houle, F. A.; Sanchez, M. I. TECHNICAL ASSOC OF PHOTOPOLYMERS JAPAN 2003 p.373-380
Cohesion Property of Resist Micro Pattern Analyzed by Using Atomic Force Microscope(AFM)
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Investigation of Contamination Removal from Finished EUVL Mask
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Current Status of EUV Photoresists
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