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Photo-curable Resin for UV-Nanoimprint Technology
Sakai, N. TECHNICAL ASSOC OF PHOTOPOLYMERS JAPAN 2009 p.133-146
A Decade of Step and Flash Imprint Lithography
Willson, C.G. TECHNICAL ASSOC OF PHOTOPOLYMERS JAPAN 2009 p.147-154
Evaluation of Viscosity Characteristics of UV Nanoimprint Resin in a Thin Film
Atobe, H.; Hiroshima, H. TECHNICAL ASSOC OF PHOTOPOLYMERS JAPAN 2009 p.155-160
Filling Behavior Observation on UV Nanoimprint Lithography
Unno, N.; Osari, K.; Machinaga, K.-i.; Taniguchi, J.; Ohsaki, T.; Sakai, N. TECHNICAL ASSOC OF PHOTOPOLYMERS JAPAN 2009 p.161-166
Characterization of Nanoimprint Resin and Antisticking Layer by Scanning Probe Microscopy
Okada, M.; Kang, Y.; Nakamatsu, K.-i.; Iwasa, M.; Kanda, K.; Haruyama, Y.; Matsui, S. TECHNICAL ASSOC OF PHOTOPOLYMERS JAPAN 2009 p.167-170
Simulation Study on Bubble Trapping in UV Nanoimprint Lithography
Nagaoka, Y.; Morihara, D.; Hiroshima, H.; Hirai, Y. TECHNICAL ASSOC OF PHOTOPOLYMERS JAPAN 2009 p.171-174
Release Properties and Durability of Release Layer on UV Nanoimprint Lithography
Taniguchi, J.; Kamiya, Y.; Ohsaki, T.; Sakai, N. TECHNICAL ASSOC OF PHOTOPOLYMERS JAPAN 2009 p.175-180
Impact of De-molding Force on Exposure Dosage in UV-Nanoimprint Process
Fujii, N.; Tanabe, T.; Hirasawa, T.; Kawata, H.; Sakai, N.; Hirai, Y. TECHNICAL ASSOC OF PHOTOPOLYMERS JAPAN 2009 p.181-184
Development of Functional Transcript Resin Sheets for Nanoimprint Applications
Mizawa, T.; Yamada, H.; Uehara, S. TECHNICAL ASSOC OF PHOTOPOLYMERS JAPAN 2009 p.185-188
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