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Study of EUV Resist Outgassing/Contamination for Device Integration using EUVL Processes
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Progress of Resist Materials and Process for hp 2x-nm Devices using EUV Lithography
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Recent Progress in EUV Blanks Development
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Understanding the Role of Acid vs. Electron Blur in EUV Resist Materials
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Dissolution Behavior of Photoresists: An In-situ Analysis
Itani, T.; Santillan, J.J. TECHNICAL ASSOC OF PHOTOPOLYMERS JAPAN 2010 p.639-642
JSR EUV Resist Development toward 22nmhp Design and Beyond
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Shiono, D.; Hada, H.; Sato, K.; Fukushima, Y.; Watanabe, T.; Kinoshita, H. TECHNICAL ASSOC OF PHOTOPOLYMERS JAPAN 2010 p.649-656
Kudo, H.; Jinguji, M.; Nishikubo, T.; Oizumi, H.; Itani, T. TECHNICAL ASSOC OF PHOTOPOLYMERS JAPAN 2010 p.657-664
Chain-Scission Polyesters for EUV Lithography
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