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1996년
eng
학술저널
INTERNATIONAL VLSI MULTILEVEL INTERCONNECTION CONFERENCE
295-300 [※수록면이 p5 이하이면, Review, Columns, Editor's Note, Abstract 등일 경우가 있습니다.]
International VLSI multilevel interconnection conference; 13th
Santa Clara; CA
1996; Jun
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A Triple Level Metallization Technique for Gigabit Scaled DRAMs
Integration of a W-Plug Via in a SOG Etch Back Based IMO Process