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      그래핀을 베이스로 사용한 열전자 트랜지스터의 특성 = Characterization of Hot Electron Transistors Using Graphene at Base

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      https://www.riss.kr/link?id=A101837357

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      다국어 초록 (Multilingual Abstract)

      Graphene has a monolayer crystal structure formed with C-atoms and has been used as a base layer of HETs (hot electron transistors). Graphene HETs have exhibited the operation at THz frequencies and higher current on/off ratio than that of Graphene FE...

      Graphene has a monolayer crystal structure formed with C-atoms and has been used as a base layer of HETs (hot electron transistors). Graphene HETs have exhibited the operation at THz frequencies and higher current on/off ratio than that of Graphene FETs. In this article, we report on the preliminary results of current characteristics from the HETs which are fabricated utilizing highly doped Si collector, graphene base, and 5 nm thin $Al_2O_3$ tunnel layers between the base and Ti emitter. We have observed E-B forward currents are inherited to tunneling through $Al_2O_3$ layers, but have not noticed the Schottky barrier blocking effect on B-C forward current at the base/collector interface. At the common-emitter configuration, under a constant $V_{BE}$ between 0~1.2V, $I_C$ has increased linearly with $V_{CE}$ for $V_{CE}$ < $V_{BE}$ indicating the saturation region. As the $V_{CE}$ increases further, a plateau of $I_C$ vs. $V_{CE}$ has appeared slightly at $V_{CE}{\simeq}V_{BE}$, denoting forward-active region. With further increase of $V_{CE}$, $I_C$ has kept increasing probably due to tunneling through thin Schottky barrier between B/C. Thus the current on/off ration has exhibited to be 50. To improve hot electron effects, we propose the usage of low doped Si substrate, insertion of barrier layer between B/C, or substrates with low electron affinity.

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      참고문헌 (Reference)

      1 A. K. Geim, 6 : 183-, 2007

      2 L. Britnell, 335 : 947-, 2012

      3 A. J. Hong, 5 : 7812-, 2011

      4 B. D. Kong, 2 : 054006-, 2014

      5 S. Vaziri, 13 : 1435-, 2013

      6 F. Xia, 10 : 715-, 2010

      7 S. K. Bae, 5 : 574-, 2010

      8 C. Zeng, 13 : 2370-, 2013

      1 A. K. Geim, 6 : 183-, 2007

      2 L. Britnell, 335 : 947-, 2012

      3 A. J. Hong, 5 : 7812-, 2011

      4 B. D. Kong, 2 : 054006-, 2014

      5 S. Vaziri, 13 : 1435-, 2013

      6 F. Xia, 10 : 715-, 2010

      7 S. K. Bae, 5 : 574-, 2010

      8 C. Zeng, 13 : 2370-, 2013

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      2017-01-01 평가 등재학술지 유지 (계속평가) KCI등재
      2013-01-01 평가 등재 1차 FAIL (등재유지) KCI등재
      2010-01-01 평가 등재학술지 유지 (등재유지) KCI등재
      2008-01-01 평가 등재학술지 유지 (등재유지) KCI등재
      2006-01-01 평가 등재학술지 유지 (등재유지) KCI등재
      2005-05-30 학회명변경 영문명 : 미등록 -> The Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers KCI등재
      2004-01-01 평가 등재학술지 유지 (등재유지) KCI등재
      2001-01-01 평가 등재학술지 선정 (등재후보2차) KCI등재
      1998-07-01 평가 등재후보학술지 선정 (신규평가) KCI등재후보
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      2016 0.13 0.13 0.13
      KCIF(4년) KCIF(5년) 중심성지수(3년) 즉시성지수
      0.14 0.14 0.247 0.06
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