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Kwo, J. ; Hong, M. ; Mannaerts, J. P. ; Lee, Y. J. ; Wu, Y. D. ; Lee, W. G. ; Milkap, S. ; Yang, B. ; Gustaffson, T.
2004년
eng
0272-9172
학술저널
MATERIALS RESEARCH SOCIETY SYMPOSIUM PROCEEDINGS
359-364 [※수록면이 p5 이하이면, Review, Columns, Editor's Note, Abstract 등일 경우가 있습니다.]
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Interval Annealing During Alternating Pulse Deposition
Atomic Layer Deposition of Aluminum Nitride Thin Films From Trimethyl Aluminum (TMA) and Ammonia