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2012년
eng
0040-6090
1879-2731
SCI;SCIE;SCOPUS
학술저널
THIN SOLID FILMS
3170-3174 [※수록면이 p5 이하이면, Review, Columns, Editor's Note, Abstract 등일 경우가 있습니다.]
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Low temperature Si:C co-flow and hybrid process using Si3H8/Cl2
Low temperature selective epitaxial growth of SiCP on Si(110) oriented surfaces