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1999년
eng
1605-7422
2410-9045
학술저널
PROCEEDINGS- SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING
1273-1283 [※수록면이 p5 이하이면, Review, Columns, Editor's Note, Abstract 등일 경우가 있습니다.]
0819431524
Microlithography 1999: Advances in resist technology and processing
Conference; 16th
Santa Clara; CA
1999; Mar
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Organic antireflective coatings for 193-nm lithography [3678-75]
Optimization of the lithographic performance for lift-off processing [3678-76]
Effect of developer normality on the resist dissolution rate and performance [3678-77]