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1995년
eng
학술저널
PROCEEDINGS OF SYMPOSIUM ON DRY PROCESS
9-14 [※수록면이 p5 이하이면, Review, Columns, Editor's Note, Abstract 등일 경우가 있습니다.]
Dry process
17th Symposium
Tokyo
1995; Nov
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Simulation of Afterglow Plasmas in time-modulated Cl~2 Plasmas
Reduction of Electron Shading Damage by Using Synchronous Bias in Pulsed Plasma
Reduction of Local Charge up with Electron Acceleration Pulse Bias