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      수화과정에서 전처리가 알루미늄 합금의 용출에 미치는 효과

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      https://www.riss.kr/link?id=T13558694

      • 저자
      • 발행사항

        인천 : 인하대학교 대학원, 2014

      • 학위논문사항
      • 발행연도

        2014

      • 작성언어

        한국어

      • DDC

        541.37 판사항(21)

      • 발행국(도시)

        인천

      • 기타서명

        Effect of pretreatment on the dissolution of aluminum alloy during hydration process

      • 형태사항

        x, 52 p. ; 26cm

      • 일반주기명

        인하대학교 논문은 저작권에 의해 보호받습니다.
        지도교수:탁용석
        참고문헌 : p.51-52

      • 소장기관
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      국문 초록 (Abstract)

      전기화학적 표면처리는 기존 제품의 품질 및 성능을 향상시키는 역할을 한다. 본 논문은 전기화학적 방법을 이용하여 열 교환기에 사용되는 Al3003 합금의 수화방지를 위한 표면처리 기술과 T...

      전기화학적 표면처리는 기존 제품의 품질 및 성능을 향상시키는 역할을 한다. 본 논문은 전기화학적 방법을 이용하여 열 교환기에 사용되는 Al3003 합금의 수화방지를 위한 표면처리 기술과 Thin film capacitor를 제조하는데 문제점으로 지적되는 염소이온을 제거하는 표면처리 기술에 관한 내용을 다루었다.
      먼저 열교환기에 사용되는 Al3003의 수화방지를 위해 양극산화와 인산처리를 이용하여 고온의 물과의 직접적인 접촉을 방지하는 산화막과 산화막 표면에 수산화기(-OH)를 증가시켰고, 그 결과 기존 대비 35% 수화방지 성능이 향상됨을 확인할 수 있었다.
      다음으로는 Thin film capacitor를 제조하는데 있어 문제가 되는 염소이온을 제거하는 기술에 대한 연구이다. 염소이온은 Thin film capacitor의 유전체 막을 파괴시켜 내전압을 0V로 떨어트린다. 이러한 문제를 해결하기 위해 cathodic polarization을 이용하여 시편을 음전하를 띄게 하였고, 이를 통해 생성되는 정전기적 반발력을 이용하여 염소이온을 제거하였다. 그 결과 기존대비 내전압이 91% 회복됨을 확인할 수 있었고, 이러한 후처리는 상대전극인 Cu layer를 생성하는데 영향을 미치지 않음을 확인할 수 있었다.

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      목차 (Table of Contents)

      • Part Ⅰ. Effect of Pre-treatment on the Dissolution of Al 3003 during Hydration Process 1
      • 1. 요 약 2
      • 2. 서 론 3
      • 3. 이 론 5
      • 3.1. 알루미늄의 특성 5
      • Part Ⅰ. Effect of Pre-treatment on the Dissolution of Al 3003 during Hydration Process 1
      • 1. 요 약 2
      • 2. 서 론 3
      • 3. 이 론 5
      • 3.1. 알루미늄의 특성 5
      • 3.2. 알루미늄 산화막 5
      • 4. 실 험 7
      • 4.1. 시편의 표면처리 7
      • 4.2. 표면 처리된 시편의 특성 평가 8
      • 5. 결과 및 고찰 9
      • 5.1. 표면 처리된 알루미늄 합금의 수화 시 형상 변화 9
      • 5.2. 양극산화에 의한 알루미늄 합금의 전기전도도 13
      • 5.3. 알루미늄 이온(Al3+)의 용출 15
      • 5.4. 알루미늄 합금 표면의 성분분석 17
      • 6. 결 론 24
      • 7. 참고문헌 25
      • Part Ⅱ. Effect of Cathodic Polarization on the Removal of Chloride Ions inside Anodized Al2O3 uring Ni Electroless Plating 29
      • 1. 요 약 30
      • 2. 서 론 31
      • 3. 이 론 33
      • 3.1. 커패시터 33
      • 3.2. Cathodic polarization method 33
      • 3.3. 무전해 도금 36
      • 4. 실 험 37
      • 4.1. 커패시터 제조를 위한 전처리 37
      • 4.2. 무전해 도금 전처리 37
      • 4.3. Cathodic polarization을 이용한 전처리 38
      • 4.4. Cu 무전해 도금 38
      • 5. 결과 및 고찰 40
      • 5.1. 시간에 따른 Cathodic polarization의 영향 40
      • 5.2. 전류의 세기에 따른 cathodic polarization의 영향 42
      • 5.3. Cathodic polarization을 통한 내전압 회복률 44
      • 5.4. Cathodic polarization에 의한 무전해 도금의 영향 47
      • 6. 결 론 50
      • 7. 참고문헌 51
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