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2015년
eng
0361-5235
1543-186X
SCI;SCIE;SCOPUS
학술저널
JOURNAL OF ELECTRONIC MATERIALS
2955-2968 [※수록면이 p5 이하이면, Review, Columns, Editor's Note, Abstract 등일 경우가 있습니다.]
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Investigation of ICPECVD Silicon Nitride Films for HgCdTe Surface Passivation
A Novel Method for In Situ Estimation of Hg1−x Cd x Te Etch Rate in Real Time