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      전도성 박막의 두께 측정기 개발 = A Development of Thickness Meter for Conductive Thin Film

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      https://www.riss.kr/link?id=A82266882

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      국문 초록 (Abstract)

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      반도체 및 평판표시장치(Flat Panel Display) 공정에서 필수적으로 사용되는 박막 두께 측정기를 개발하였다. 측정방식은 FPP법의 dual configuration 측정원리를 적용하였으며 측정범위는 수 ㎚ ∼ 수십 ㎛이다. 순수한 금속 박막에 대하여 측정이 가능하며 박막 시료의 표면에 probe를 접촉시키면 두께가 자동 측정 되므로 박막 시료의 측정위치에 관계없이 누구나 쉽고 정확하게 사용할 수 있다. 저항 측정기능에서 재현성과 반복성 및 직선성은 0.1 %이하의 불확도 범위에서 우수한 특성을 나타냈다.
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      반도체 및 평판표시장치(Flat Panel Display) 공정에서 필수적으로 사용되는 박막 두께 측정기를 개발하였다. 측정방식은 FPP법의 dual configuration 측정원리를 적용하였으며 측정범위는 수 ㎚ ∼ 수...

      반도체 및 평판표시장치(Flat Panel Display) 공정에서 필수적으로 사용되는 박막 두께 측정기를 개발하였다. 측정방식은 FPP법의 dual configuration 측정원리를 적용하였으며 측정범위는 수 ㎚ ∼ 수십 ㎛이다. 순수한 금속 박막에 대하여 측정이 가능하며 박막 시료의 표면에 probe를 접촉시키면 두께가 자동 측정 되므로 박막 시료의 측정위치에 관계없이 누구나 쉽고 정확하게 사용할 수 있다. 저항 측정기능에서 재현성과 반복성 및 직선성은 0.1 %이하의 불확도 범위에서 우수한 특성을 나타냈다.

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