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https://www.riss.kr/link?id=O44365133
2005년
eng
1078-8743
2376-6697
SCOPUS
학술저널
IEEE SEMI ADVANCED SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CONFERENCE AND WORKSHOP
96-100 [※수록면이 p5 이하이면, Review, Columns, Editor's Note, Abstract 등일 경우가 있습니다.]
0780389964
Advanced semiconductor manufacturing conference and workshop; ASMC 2005
Munich, Germany
2005; Apr
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1.1a "Non-Damaging Chemical Photoresist Strip Process for CopperlLow-k Interconnects"