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2007년
eng
0021-4922
1347-4065
SCI;SCIE;SCOPUS
학술저널
Japanese Journal of Applied Physics Part 1-Regular Papers Brief Communications & Review Papers
2226-2230 [※수록면이 p5 이하이면, Review, Columns, Editor's Note, Abstract 등일 경우가 있습니다.]
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Ta/Mo Stack Dual Metal Gate Technology Applicable to Gate-First Processes [published April 24, 2007]