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あ ぁ か が さ ざ た だ な は ば ぱ ま や ゃ ら わ ゎ ん い ぃ き ぎ し じ ち ぢ に ひ び ぴ み り う ぅ く ぐ す ず つ づ っ ぬ ふ ぶ ぷ む ゆ ゅ る え ぇ け げ せ ぜ て で ね へ べ ぺ め れ お ぉ こ ご そ ぞ と ど の ほ ぼ ぽ も よ ょ ろ を
ア ァ カ サ ザ タ ダ ナ ハ バ パ マ ヤ ャ ラ ワ ヮ ン イ ィ キ ギ シ ジ チ ヂ ニ ヒ ビ ピ ミ リ ウ ゥ ク グ ス ズ ツ ヅ ッ ヌ フ ブ プ ム ユ ュ ル エ ェ ケ ゲ セ ゼ テ デ ヘ ベ ペ メ レ オ ォ コ ゴ ソ ゾ ト ド ノ ホ ボ ポ モ ヨ ョ ロ ヲ ―

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ㅥ ㅦ ㅧ ㅨ ㅩ ㅪ ㅫ ㅬ ㅭ ㅮ ㅯ ㅰ ㅱ ㅲ ㅳ ㅴ ㅵ ㅶ ㅷ ㅸ ㅹ ㅺ ㅻ ㅼ ㅽ ㅾ ㅿ ㆀ ㆁ ㆂ ㆃ ㆄ ㆅ ㆆ ㆇ ㆈ ㆉ ㆊ ㆋ ㆌ ㆍ ㆎ
Α Β Γ Δ Ε Ζ Η Θ Ι Κ Λ Μ Ν Ξ Ο Π Ρ Σ Τ Υ Φ Χ Ψ Ω α β γ δ ε ζ η θ ι κ λ μ ν ξ ο π ρ σ τ υ φ χ ψ ω
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§ ※ ☆ ★ ○ ● ◎ ◇ ◆ □ ■ △ ▽ → ← ↑ ↓ ↔ 〓 ◁ ◀ ▷ ▶ ♤ ♠ ♡ ♥ ♧ ♣ ⊙ ◈ ▣ ◐ ◑ ▒ ▤ ▥ ▨ ▧ ▦ ▩ ♨ ☏ ☎ ☜ ☞ † ‡ ↕ ↗ ↙ ↖ ↘ ♭ ♩ ♪ ♬ ㉿ ㈜ № ㏇ ™ ㏂ ㏘ ℡ ＃ ＆ ＊ ＠ ª º
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      Communication—Corrosion Behavior of Tungsten Metal Gate in the Presence of Hydrogen Peroxide at Acidic Medium

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      https://www.riss.kr/link?id=A107510936

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      다국어 초록 (Multilingual Abstract)

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      <P>Herein, the corrosion behaviors of W metal gates in the presence of H<SUB>2</SUB>O<SUB>2</SUB> at the acidic medium were investigated as a function of dipping time, temperature, and H<SUB>2</SUB>O<SUB>2</SUB> concentration. We determined the kinetic constants (i.e. <I>k</I><SUB>w</SUB> and <I>k</I><SUB>h</SUB>) based on the experimental data. The activation energy (<I>E</I><SUB>a</SUB>) are calculated from the Arrhenius equation. Thermodynamic parameters (Δ<I>G</I><SUP>‡</SUP>, Δ<I>H</I><SUP>‡</SUP>, and Δ<I>S</I><SUP>‡</SUP>) for the dissolution were determined based on the Eyring plot. These results investigated in this study will provide researchers the prior information on parameters to control the corrosion behaviors of W metal gates during the chemical mechanical planarization (CMP) process.</P>
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      <P>Herein, the corrosion behaviors of W metal gates in the presence of H<SUB>2</SUB>O<SUB>2</SUB> at the acidic medium were investigated as a function of dipping time, temperature, and H<SUB>2</SUB>O<SUB>...

      <P>Herein, the corrosion behaviors of W metal gates in the presence of H<SUB>2</SUB>O<SUB>2</SUB> at the acidic medium were investigated as a function of dipping time, temperature, and H<SUB>2</SUB>O<SUB>2</SUB> concentration. We determined the kinetic constants (i.e. <I>k</I><SUB>w</SUB> and <I>k</I><SUB>h</SUB>) based on the experimental data. The activation energy (<I>E</I><SUB>a</SUB>) are calculated from the Arrhenius equation. Thermodynamic parameters (Δ<I>G</I><SUP>‡</SUP>, Δ<I>H</I><SUP>‡</SUP>, and Δ<I>S</I><SUP>‡</SUP>) for the dissolution were determined based on the Eyring plot. These results investigated in this study will provide researchers the prior information on parameters to control the corrosion behaviors of W metal gates during the chemical mechanical planarization (CMP) process.</P>

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