RISS 검색 - 해외학술지논문 상세보기

다국어 입력

あぁかがさざただなはばぱまやゃらわゎんいぃきぎしじちぢにひびぴみりうぅくぐすずつづっぬふぶぷむゆゅるえぇけげせぜてでねへべぺめれおぉこごそぞとどのほぼぽもよょろを

アァカサザタダナハバパマヤャラワヮンイィキギシジチヂニヒビピミリウゥクグスズツヅッヌフブプムユュルエェケゲセゼテデヘベペメレオォコゴソゾトドノホボポモヨョロヲ ―

http://chineseinput.net/에서 pinyin(병음)방식으로 중국어를 변환할 수 있습니다.

변환된 중국어를 복사하여 사용하시면 됩니다.

예시)

ㅥ ㅦ ㅧ ㅨ ㅩ ㅪ ㅫ ㅬ ㅭ ㅮ ㅯ ㅰ ㅱ ㅲ ㅳ ㅴ ㅵ ㅶ ㅷ ㅸ ㅹ ㅺ ㅻ ㅼ ㅽ ㅾ ㅿ ㆀ ㆁ ㆂ ㆃ ㆄ ㆅ ㆆ ㆇ ㆈ ㆉ ㆊ ㆋ ㆌ ㆍ ㆎ

Α Β Γ Δ Ε Ζ Η Θ Ι Κ Λ Μ Ν Ξ Ο Π Ρ Σ Τ Υ Φ Χ Ψ Ω α β γ δ ε ζ η θ ι κ λ μ ν ξ ο π ρ σ τ υ φ χ ψ ω

á à Á À é è É È ç Ç ê

Ä Ö Ü ä ö ü ß

‘ ’ “ ” 〔〕〈〉「」『』【】＂（）［］｛｝

± × ÷ ≠ ≤ ≥ ∞ ∴ ♂ ♀ ∠ ⊥ ⌒ ∂ ∇ ≡ ≒ ≪ ≫ √ ∽ ∝ ∵ ∫ ∬ ∈ ∋ ⊆ ⊇ ⊂ ⊃ ∪ ∩ ∧ ∨ ￢ ⇒ ⇔ ∀ ∃ ∮ ∑ ∏ ＋－＜＝＞

、。 · ‥ … ¨ 〃 ― ∥ ＼ ∼ ´ ～ ˇ ˘ ˝ ˚ ˙ ¸ ˛ ¡ ¿ ː ！＇，．／：；？＾＿｀｜

½ ⅓ ⅔ ¼ ¾ ⅛ ⅜ ⅝ ⅞ ¹ ² ³ ⁴ ⁿ ₁ ₂ ₃ ₄

Æ Ð Ħ Ĳ Ł Ø Œ Þ Ŧ Ŋ æ đ ð ħ ı ĳ ĸ ŀ ł ø œ ß þ ŧ ŋ ŉ

А Б В Г Д Е Ё Ж З И Й К Л М Н О П Р С Т У Ф Х Ц Ч Ш Щ Ъ Ы Ь Э Ю Я а б в г д е ё ж з и й к л м н о п р с т у ф х ц ч ш щ ъ ы ь э ю я

′ ″ ℃ Å ￠￡￥ ¤ ℉ ‰ ＄％Ｆ￦㎕㎖㎗ ℓ ㎘㏄㎣㎤㎥㎦㎙㎚㎛㎜㎝㎞㎟㎠㎡㎢㏊㎍㎎㎏㏏㎈㎉㏈㎧㎨㎰㎱㎲㎳㎴㎵㎶㎷㎸㎹㎀㎁㎂㎃㎄㎺㎻㎽㎾㎿㎐㎑㎒㎓㎔ Ω ㏀㏁㎊㎋㎌㏖㏅㎭㎮㎯㏛㎩㎪㎫㎬㏝㏐㏓㏃㏉㏜㏆

§ ※ ☆ ★ ○ ● ◎ ◇ ◆ □ ■ △ ▽ → ← ↑ ↓ ↔ 〓 ◁ ◀ ▷ ▶ ♤ ♠ ♡ ♥ ♧ ♣ ⊙ ◈ ▣ ◐ ◑ ▒ ▤ ▥ ▨ ▧ ▦ ▩ ♨ ☏ ☎ ☜ ☞ ¶ † ‡ ↕ ↗ ↙ ↖ ↘ ♭ ♩ ♪ ♬ ㉿㈜ № ㏇ ™ ㏂㏘ ℡ ＃＆＊＠ ª º

ⅰ ⅱ ⅲ ⅳ ⅴ ⅵ ⅶ ⅷ ⅸ ⅹ Ⅰ Ⅱ Ⅲ Ⅳ Ⅴ Ⅵ Ⅶ Ⅷ Ⅸ Ⅹ

ا ب ت ث ج ح خ د ذ ر ز س ش ص ض ط ظ ع غ ف ق ک ل م ن ه و ی

RISS 인기검색어

한글로보기

https://www.riss.kr/link?id=O138511719

GaN, AlN, and InN: A review
- AVS: Science & Technology of Materials, Interfaces, and Processing
- Strite, S.Morkoç, H.
- 1992
- SCIE
In situ characterization of InP surfaces after low‐energy hydrogen ion cleaning
- AVS: Science & Technology of Materials, Interfaces, and Processing
- Gallet, D.;Hollinger, G.;Santinelli, C.Goldstein, L.
- 1992
- SCIE
FeGe liquid metal ion source for maskless isolation implants in InP
- AVS: Science & Technology of Materials, Interfaces, and Processing
- Chu, C. H.;Barr, D. L.;Harriott, L. R.Wade, H. H.
- 1992
- SCIE
Closed‐ampoule diffusion of sulfur into Cd‐doped InP substrates: Dependence of S profiles on diffusion temperature and time
- AVS: Science & Technology of Materials, Interfaces, and Processing
- Faur, Mircea;Faur, Maria;Honecy, Frank;Goradia, Chandra;Goradia, Manju;Jayne, DouglasClark, Ralph
- 1992
- SCIE