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2015년
eng
2166-2746
2166-2754
SCIE
학술저널
Journal of vacuum science and technology.B.Nanotechnology & microelectronics
030601-030601 [※수록면이 p5 이하이면, Review, Columns, Editor's Note, Abstract 등일 경우가 있습니다.]
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Silicon etching in a pulsed HBr/O~2 plasma. I. Ion flux and energy analysis
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