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2001년
eng
학술저널
INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON PLASMA PROCESS-INDUCED DAMAGE
120-123 [※수록면이 p5 이하이면, Review, Columns, Editor's Note, Abstract 등일 경우가 있습니다.]
096515775X; 0965157768
Plasma- and process-induced damage
International symposium; 6th
Monterey, CA
2001; May
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Interconnect Limits on Gigascale Integration (GSI)
Fundamental Limitations in the Design of Front End and Back End Plasma Etch Processes