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2007년
eng
0948-1907
1521-3862
SCI;SCIE;SCOPUS
학술저널
CHEMICAL VAPOR DEPOSITION -WEINHEIM-
691-697 [※수록면이 p5 이하이면, Review, Columns, Editor's Note, Abstract 등일 경우가 있습니다.]
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Deposition of Lanthanum Zirconium Oxide High-k Films by Liquid Injection ALD and MOCVD
Iridium Thin Films Deposited by Liquid Delivery MOCVD using Ir(EtCp)(1,5-COD) with Toluene Solvent
Growth of Epitaxial MgB2 Thick Films with Columnar Structures by Using HPCVD
Subject Index (Chem. Vap. Deposition 2007, Vol. 13)