금속-유전체의 접촉 근처에서 전기장 증진 = Enhancements of the Electric Fields Near the Contact between a Metal and a Dielectric

다국어 초록 (Multilingual Abstract)

We investigated the behavior of the electric field near a junction composed of a metal, a dielectric, and vacuum. By using the two-dimensional model of a quadruple junction composed of a metal,vacuum, a dielectric, and vacuum, we calculated the electric field near the junction as a function of the configuration and the dielectric constant. We found that the obtained field was enhanced more strongly for the quadruple junction than for the associated triple junction.

국문 초록 (Abstract)

금속-유전체의 접촉 근처에서 일어나는 전기장의 증진 현상을 이론적으로연구하였다.실제 제작되는 소자와 비슷한 준2차원 접촉을금속-진공-유전체-진공으로 이루어지는 사중 접합의 모델로 가정하여라플라스 방정식의 해석적 해를 구하였다. 그 결과 해석적, 수치적으로전기장을 접촉구조와 유전상수의 함수로 구하였다. 유전체 의한 전기장증진은 삼중접합에서보다는 사중접합 구조에서 더 현저하게 나타났다.

참고문헌 (Reference)

1 A. Watson, 38 : 2019-, 1967

2 G. N. Fursei, 12 : 1370-, 1968

3 R. V. Latham, 32 : 137-, 1982

4 X. Ma, 16 : 745-, 1998

5 X. Ma, 16 : 1174-, 1998

6 M. W. Geis, 10 : 3-, 1997

7 M. S. Chung, 22 : 1240-, 2004

8 T. Takuma, 26 : 500-, 1991

9 O. Yamamoto, 131 : 1-, 2000

10 X. Ma, 19 : 683-, 2001

11 T. Kawamoto, 167 : 1-, 2009

12 N. M. Jordan, 102 : 03301-, 2007

13 L. Sch¨achter, 72 : 421-, 1998

14 M. S. Chung, 251 : 177-, 2005

15 M. S. Chung, 24 : 909-, 2006

16 M. W. Geis, 87 : 192115-, 2005

17 J. D. Jackson, "Classical Electrodynamics, 3rd ed" John Wiley & Sons 75-, 1999