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ア ァ カ サ ザ タ ダ ナ ハ バ パ マ ヤ ャ ラ ワ ヮ ン イ ィ キ ギ シ ジ チ ヂ ニ ヒ ビ ピ ミ リ ウ ゥ ク グ ス ズ ツ ヅ ッ ヌ フ ブ プ ム ユ ュ ル エ ェ ケ ゲ セ ゼ テ デ ヘ ベ ペ メ レ オ ォ コ ゴ ソ ゾ ト ド ノ ホ ボ ポ モ ヨ ョ ロ ヲ ―

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      수소 환원 공정과 실리콘 확산 침투 처리 공정을 통한 이규화 몰리브덴 코팅층 형성 = Formation of MoSi2 Layer by Hydrogen Reduction and Si-pack Cementation

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      https://www.riss.kr/link?id=A60204855

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      In this study, a molybdenum disilicide (MoSi2) coating process was investigated by hydrogen reduction and Si-pack cementation. At first, the metallic Mo coating was carried out by hydrogen reduction of MoO3 powder at 750℃ for various holding times (...

      In this study, a molybdenum disilicide (MoSi2) coating process was investigated by hydrogen reduction and Si-pack cementation. At first, the metallic Mo coating was carried out by hydrogen reduction of MoO3 powder at 750℃ for various holding times (1, 2, 3 h) in hydrogen atmosphere. A 4.3 ㎛thick metallic molybdenum thin film was formed at 3 h. MoSi2 was obtained by Si-pack cementation on molybdenum thin film through hydrogen reduction processing. It was carried out using Si : Al2O3 : NH4Cl = 5 : 92 : 3 (wt%) packs at 900℃ for various holding times (30, 60, 90 min) in Ar atmosphere. When the holding time was 90 min, a MoSi2 layer was coated successfully and a 15.4 ㎛thickness was observed.

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