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ア ァ カ サ ザ タ ダ ナ ハ バ パ マ ヤ ャ ラ ワ ヮ ン イ ィ キ ギ シ ジ チ ヂ ニ ヒ ビ ピ ミ リ ウ ゥ ク グ ス ズ ツ ヅ ッ ヌ フ ブ プ ム ユ ュ ル エ ェ ケ ゲ セ ゼ テ デ ヘ ベ ペ メ レ オ ォ コ ゴ ソ ゾ ト ド ノ ホ ボ ポ モ ヨ ョ ロ ヲ ―

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      Prepassivated AlGaN/GaN HEMTs with improved edge acuity in annealed ohmic contacts

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      https://www.riss.kr/link?id=A107629967

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      다국어 초록 (Multilingual Abstract)

      <P>Sharp edge definition of annealed ohmic contacts is of great concern in AlGaN/GaN high electron mobility transistors (HEMTs) because it is strongly associated with breakdown voltage uniformity and reliability. In this reported work, two-step ...

      <P>Sharp edge definition of annealed ohmic contacts is of great concern in AlGaN/GaN high electron mobility transistors (HEMTs) because it is strongly associated with breakdown voltage uniformity and reliability. In this reported work, two-step sequential annealing in conjunction with a low-damage SiN<SUB>x</SUB> dry etching technique was employed in a prepassivation process in order to improve the edge acuity in annealed ohmic contacts. As a result, uniformity in breakdown voltage was significantly improved in comparison with a conventional process.</P>

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