1 S. D. Jones, 53 : 628-, 1992
2 Z. Chen, 49 : 1079-, 2004
3 S. T. Myung, 17 : 3695-, 2005
4 G. G. Amatacci, 83 : 167-, 1996
5 J. Cho, 12 : 3788-, 2000
6 H. Miyashiro, 153 : A348-, 2006
7 H. J. Kwenon, 88 : 255-, 2000
8 M. Mladenov, 3 : 410-, 2001
9 E. Endo, 147 : 1291-, 2001
10 J. B. Bate, 70 : 619-, 1994
1 S. D. Jones, 53 : 628-, 1992
2 Z. Chen, 49 : 1079-, 2004
3 S. T. Myung, 17 : 3695-, 2005
4 G. G. Amatacci, 83 : 167-, 1996
5 J. Cho, 12 : 3788-, 2000
6 H. Miyashiro, 153 : A348-, 2006
7 H. J. Kwenon, 88 : 255-, 2000
8 M. Mladenov, 3 : 410-, 2001
9 E. Endo, 147 : 1291-, 2001
10 J. B. Bate, 70 : 619-, 1994
11 Y. Jang II, 146 : 862-, 1999
12 H. Tukamoto, 144 : 3146-, 1997
13 Z. Chen, 5 : A213-, 2002
14 J. O. Song, 86 : 252501-, 2005
15 S.-T. Myung, 17 : 3695-, 2005
16 T. Ohzuku, 141 : 2972-, 1994
17 J. N. Peimers, 139 : 2091-, 1992
18 M. Levi, 146 : 1279-, 1999
19 D. Aurbach, 145 : 3024-, 1998
20 X. Wu, 137 : 105-, 2004
21 박선규, "Dependence of Al2O3 Coating Thickness and Annealing Conditions on Microstructural and Electrochemical Properties of LiCoO2 Film" 대한금속·재료학회 16 (16): 93-98, 2010