RISS 학술연구정보서비스

검색
다국어 입력

http://chineseinput.net/에서 pinyin(병음)방식으로 중국어를 변환할 수 있습니다.

변환된 중국어를 복사하여 사용하시면 됩니다.

예시)
  • 中文 을 입력하시려면 zhongwen을 입력하시고 space를누르시면됩니다.
  • 北京 을 입력하시려면 beijing을 입력하시고 space를 누르시면 됩니다.
닫기
    인기검색어 순위 펼치기

    RISS 인기검색어

      KCI등재

      Trapezoid mesa와 Half Sidewall Technique을 이용한 4H-SiC Trench MOS Barrier Schottky(TMBS) Rectifier = A 4H-SiC Trench MOS Barrier Schottky (TMBS) Rectifier using the trapezoid mesa and the upper half of sidewall

      한글로보기

      https://www.riss.kr/link?id=A101123880

      • 0

        상세조회
      • 0

        다운로드
      서지정보 열기
      • 내보내기
      • 내책장담기
      • 공유하기
      • 오류접수

      부가정보

      국문 초록 (Abstract)

      본 논문에서는 전력반도체 소자의 재료로써 주목받고 있는 탄화규소 기반의 Trench MOS Barrier Schottky(TMBS)의 순방향 및 역방향 특성을 개선시키기 위한 구조를 제안한다. 순방향 전압강하와 역...

      본 논문에서는 전력반도체 소자의 재료로써 주목받고 있는 탄화규소 기반의 Trench MOS Barrier Schottky(TMBS)의 순방향 및 역방향 특성을 개선시키기 위한 구조를 제안한다. 순방향 전압강하와 역방향 항복전압을 개선시키기 위하여 사다리꼴 mesa 구조와 trench sidewall의 길이를 조절하는 기법을 사용하는 4H-SiC TMBS 정류기를 제안하고 있다. 제안된 구조는 사다리꼴 mesa 구조를 적용하여 trench sidewall에 경사를 줌으로써 1508V의 역방향 항복전압을 얻었다. 이것은 기존의 4H-SiC TMBS 정류기에 비하여 역방향 항복전압을 11% 개선시켰음을 나타낸다. 또한 trench sidewall 상단의 길이를 조절하여 순방향 전류 $200A/cm^2$에 대하여 12% 감소된 1.6V의 순방향 전압강하를 얻었다. 제안된 소자는 Silvaco사의 T-CAD를 사용하여 전기적 특성을 분석하였다.

      더보기

      다국어 초록 (Multilingual Abstract)

      In this study, an 4H-SiC Trench MOS Barrier Schottky (TMBS) rectifier which utilizes the trapezoid mesa structure and the upper half of the trench sidewall is proposed to improve the forward voltage drop and reverse blocking voltage concurrently. The ...

      In this study, an 4H-SiC Trench MOS Barrier Schottky (TMBS) rectifier which utilizes the trapezoid mesa structure and the upper half of the trench sidewall is proposed to improve the forward voltage drop and reverse blocking voltage concurrently. The proposed 4H-SiC TMBS rectifier reduces the forward voltage drop by 12% compared to the conventional 4H-SiC TMBS rectifier with the tilted sidewall and improves the reverse blocking voltage by 11% with adjusting the length of the upper sidewall. The Silvaco T-CAD was used to analyze the electrical characteristics.

      더보기

      참고문헌 (Reference)

      1 B. J. Baliga, "Trends in power semiconductor devices" 43 : 1717-1731, 1996

      2 M. Mehrotra, "Trench MOS barrier Schottky(TMBS)rectifier : A Schottky rectifier with higher than parallel plane breakdown voltage" 38 (38): 801-806, 1995

      3 W. Y. Li, "Trapezoid mesa trench metal-oxide semiconductor barrier Schottky rectifier: an improved Schottky rectifier with better reverse characteristics" 20 : 1-8, 2011

      4 R. F. Davis, "Thin film deposition and microelectronics and optoelectronic device fabrication and characterization in monocrystalline alpha and beta silicon carbide" 79 (79): 677-701, 1991

      5 B. J. Baliga, "The pinch rectifier : A low-forward-drop high-speed power diode" 5 : 194-196, 1984

      6 S. Kunori, "The low power dissipation Schottky barrier diode with trench structure" 66-71, 1992

      7 J. W. Moon, "Modified Trench MOS Barrier Schottky(TMBS)Rectifier" 5 (5): 58-62, 2005

      8 T. Nakamura, "High Performance SiC Trench Devices with Ultra-low Ron" 1-3, 2011

      9 J. M. Bluet, "Barrier height homogeneity for 4. 5 kV 4H-SiC Schottky rectifier" 40 (40): 399-404, 2006

      10 K. J. Schoen, "A Dual-Metal-Trench Schottky Pinch-Rectifier in 4H-SiC" 19 (19): 97-99, 1998

      1 B. J. Baliga, "Trends in power semiconductor devices" 43 : 1717-1731, 1996

      2 M. Mehrotra, "Trench MOS barrier Schottky(TMBS)rectifier : A Schottky rectifier with higher than parallel plane breakdown voltage" 38 (38): 801-806, 1995

      3 W. Y. Li, "Trapezoid mesa trench metal-oxide semiconductor barrier Schottky rectifier: an improved Schottky rectifier with better reverse characteristics" 20 : 1-8, 2011

      4 R. F. Davis, "Thin film deposition and microelectronics and optoelectronic device fabrication and characterization in monocrystalline alpha and beta silicon carbide" 79 (79): 677-701, 1991

      5 B. J. Baliga, "The pinch rectifier : A low-forward-drop high-speed power diode" 5 : 194-196, 1984

      6 S. Kunori, "The low power dissipation Schottky barrier diode with trench structure" 66-71, 1992

      7 J. W. Moon, "Modified Trench MOS Barrier Schottky(TMBS)Rectifier" 5 (5): 58-62, 2005

      8 T. Nakamura, "High Performance SiC Trench Devices with Ultra-low Ron" 1-3, 2011

      9 J. M. Bluet, "Barrier height homogeneity for 4. 5 kV 4H-SiC Schottky rectifier" 40 (40): 399-404, 2006

      10 K. J. Schoen, "A Dual-Metal-Trench Schottky Pinch-Rectifier in 4H-SiC" 19 (19): 97-99, 1998

      더보기

      동일학술지(권/호) 다른 논문

      분석정보

      View

      상세정보조회

      0

      Usage

      원문다운로드

      0

      대출신청

      0

      복사신청

      0

      EDDS신청

      0

      동일 주제 내 활용도 TOP

      더보기

      주제

      연도별 연구동향

      연도별 활용동향

      연관논문

      연구자 네트워크맵

      공동연구자 (7)

      유사연구자 (20) 활용도상위20명

      인용정보 인용지수 설명보기

      학술지 이력

      학술지 이력
      연월일 이력구분 이력상세 등재구분
      2024 평가예정 재인증평가 신청대상 (재인증)
      2021-01-01 평가 등재학술지 선정 (계속평가) KCI등재
      2020-12-01 평가 등재후보로 하락 (재인증) KCI등재후보
      2017-01-01 평가 등재학술지 선정 (계속평가) KCI등재
      2016-01-01 평가 등재후보학술지 유지 (계속평가) KCI등재후보
      2015-12-01 평가 등재후보로 하락 (기타) KCI등재후보
      2011-01-01 평가 등재 1차 FAIL (등재유지) KCI등재
      2009-01-01 평가 등재학술지 유지 (등재유지) KCI등재
      2006-01-01 평가 등재학술지 선정 (등재후보2차) KCI등재
      2005-10-17 학술지명변경 외국어명 : 미등록 -> Journal of IKEEE KCI등재후보
      2005-05-30 학술지등록 한글명 : 전기전자학회논문지
      외국어명 : 미등록
      KCI등재후보
      2005-03-25 학회명변경 한글명 : (사) 한국전기전자학회 -> 한국전기전자학회
      영문명 : 미등록 -> Institute of Korean Electrical and Electronics Engineers
      KCI등재후보
      2005-01-01 평가 등재후보 1차 PASS (등재후보1차) KCI등재후보
      2004-01-01 평가 등재후보 1차 FAIL (등재후보1차) KCI등재후보
      2003-01-01 평가 등재후보학술지 선정 (신규평가) KCI등재후보
      더보기

      학술지 인용정보

      학술지 인용정보
      기준연도 WOS-KCI 통합IF(2년) KCIF(2년) KCIF(3년)
      2016 0.3 0.3 0.29
      KCIF(4년) KCIF(5년) 중심성지수(3년) 즉시성지수
      0.24 0.22 0.262 0.17
      더보기

      이 자료와 함께 이용한 RISS 자료

      나만을 위한 추천자료

      해외이동버튼