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Zhou, H. T. ; He, X. L. ; Zhou, W. N. ; Hu, Z. G. ; Zhang, C. L. ; Huo, H. D. ; Wang, J. L. ; Qin, S. J. ; Zuo, Y. B. ; Lu, F. H.
2011년
eng
0022-0248
1873-5002
SCI;SCIE;SCOPUS
학술저널
JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH
613-617 [※수록면이 p5 이하이면, Review, Columns, Editor's Note, Abstract 등일 경우가 있습니다.]
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Variation in Si(100) surface roughness caused by H-termination during high-temperature Ar annealing
Epitaxial growth of ZnO nanocrystals at ZnWO4(010) cleaved surface