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Liao, H. ; Stippel, H. ; Reddy, K. ; Geha, S.
1995년
eng
0272-9172
학술저널
MATERIALS RESEARCH SOCIETY SYMPOSIUM PROCEEDINGS
113-118 [※수록면이 p5 이하이면, Review, Columns, Editor's Note, Abstract 등일 경우가 있습니다.]
1558992901
Rapid thermal and integrated processing IV
Symposium
San Francisco; CA
1995; Apr
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Transient and Spatial Radiative Properties of Patterned Wafers During Rapid Thermal Processing
Emissivity of Rough Silicon Surfaces: Measurement and Calculations