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2007년
eng
0948-1907
1521-3862
SCI;SCIE;SCOPUS
학술저널
CHEMICAL VAPOR DEPOSITION -WEINHEIM-
633-637 [※수록면이 p5 이하이면, Review, Columns, Editor's Note, Abstract 등일 경우가 있습니다.]
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Contents: Chem. Vap. Deposition 11/2007
Growth of HfO2 by Liquid Injection MOCVD and ALD Using New Hafnium-Cyclopentadienyl Precursors
Author Index and Subject Index Chem. Vap. Deposition11/2007