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2013년
eng
1938-5862
1938-6737
학술저널
ECS TRANSACTIONS
299-306 [※수록면이 p5 이하이면, Review, Columns, Editor's Note, Abstract 등일 경우가 있습니다.]
9781623321017 (Hardcover)
Atomic layer deposition applications; Atomic layer deposition applications 9; editors: F. Roozeboom [and five others]
International Symposium; 9th
San Francisco, CA
2013; Oct
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(Invited) Unit Steps of an ALD Half-Cycle
Diaphragm Durability Enhancement for Valves Supplying Gas for Atomic Layer Deposition