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1989
Korean
학술저널
426-430(5쪽)
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RTA를 이용한 COBALT-SILICIDE의 형성에 관한 연구 ( FORMATION OF COBALT SILICIDE BY RTA )
RP-CVD에 의한 비정질 실리콘 박막의 특성 ( Characterization of a-Si : H films deposited by a remote plasma CVD )