모바일 기기 기술의 급속한 발전으로 PCB는 고집적화, 초소형화, 다층화 되어 가고 있으며, 이에 따라 PCB 설계 의 난이도 및 작업시간이 증가하고 있다. 여러 PCB 설계 작업 과정 중에서 가장 ...
http://chineseinput.net/에서 pinyin(병음)방식으로 중국어를 변환할 수 있습니다.
변환된 중국어를 복사하여 사용하시면 됩니다.
https://www.riss.kr/link?id=A100264502
2014
Korean
차세대 모바일 단말 ; 비아 홀 ; 전층 비아 규칙 ; 멘토 ; PCB ; Next Generation Mobile Phone ; PCB ; VIA hole ; All stack VIA rule ; Mentor
KCI등재
학술저널
69-77(9쪽)
1
학회 요청에 의해 무료로 제공
0
상세조회0
다운로드국문 초록 (Abstract)
모바일 기기 기술의 급속한 발전으로 PCB는 고집적화, 초소형화, 다층화 되어 가고 있으며, 이에 따라 PCB 설계 의 난이도 및 작업시간이 증가하고 있다. 여러 PCB 설계 작업 과정 중에서 가장 ...
모바일 기기 기술의 급속한 발전으로 PCB는 고집적화, 초소형화, 다층화 되어 가고 있으며, 이에 따라 PCB 설계 의 난이도 및 작업시간이 증가하고 있다. 여러 PCB 설계 작업 과정 중에서 가장 많은 작업시간이 소요되는 것은 배선 작업이고, 여기에 VIA 규칙이 사용된다. 본 논문에서는 PCB 설계의 작업량과 작업소요 시간을 절감하기 위 한 효과적인 전층 VIA 규칙을 제안한다. 제안 방법은 설계의 작업 층을 기준으로 VIA 규칙들을 제공함으로써, VIA 사용의 직관성을 높임으로써 전체적인 작업량과 작업시간을 단축할 수 있다. 제안 방법을 AMPLE을 사용하여 구현하여, 실제 스마트폰 메인 PCB 작업에 적용하여, 제안 방법의 효과성을 보였다.
다국어 초록 (Multilingual Abstract)
With the rapid development of technologies for mobile devices, PCBs are getting higher-density, smaller-size, and more multiple layers (multilayers). Accordingly, the difficulty and the time for PCB design works are also getting increased. Among sever...
With the rapid development of technologies for mobile devices, PCBs are getting higher-density, smaller-size, and more multiple layers (multilayers). Accordingly, the difficulty and the time for PCB design works are also getting increased. Among several processes for PCB designs, works of wiring take most of the time for PCB designs, in which VIA rules are applied to. In this paper, we propose an efficient all stack VIA rule to reduce workload and worktime for PCB design. The proposed method provides the list of candidate VIA rules based on the rule layer, increases the immediate intuitiveness how to confiture the VIA rules, and reduces the whole workload and worktime. The proposed method has been implemented in actual smart phone main PCB using AMPLE, and it has been shown the effectiveness of the proposed method.
목차 (Table of Contents)
참고문헌 (Reference)
1 박성규, "차세대 메모리를 활용한 연구 환경 개발" 한국차세대컴퓨팅학회 5 (5): 20-27, 2009
2 윤달환, "제어된 임피던스용 다층 PCB 설계 시뮬레이터 구현" 대한전자공학회 48 (48): 73-81, 2011
3 박용훈, "영상 처리 알고리즘 전용 멀티코어 프로토타입시스템 설계 및 구현" 한국차세대컴퓨팅학회 10 (10): 6-16, 2014
4 "삼성전기 Print Circuit Board SAVIA"
5 한국전자회로산업협회, "년도 별 세계 전자회로기판 시장 규모, 제품별 시장 규모"
6 F. Y. Chang, "Transient Analysis of Lossless Coupled Transmission Lines in Nonhomogeneous Dielectnec Medium" 18 : 616-626, 1970
7 L. Gui, "Research on the EM Modeling of Optimization of PCB Grounded VIA" 195-196 : 1153-1157, 2012
8 김영길, "PCB에서 최적 VIA 수 찾는Simulation" 15 (15): 329-332, 2011
9 "Mentor Graphics"
10 박진홍, "Mentor Borad Station을 이용한 Print Circuit Borad의 설계" 북두출판사 2003
1 박성규, "차세대 메모리를 활용한 연구 환경 개발" 한국차세대컴퓨팅학회 5 (5): 20-27, 2009
2 윤달환, "제어된 임피던스용 다층 PCB 설계 시뮬레이터 구현" 대한전자공학회 48 (48): 73-81, 2011
3 박용훈, "영상 처리 알고리즘 전용 멀티코어 프로토타입시스템 설계 및 구현" 한국차세대컴퓨팅학회 10 (10): 6-16, 2014
4 "삼성전기 Print Circuit Board SAVIA"
5 한국전자회로산업협회, "년도 별 세계 전자회로기판 시장 규모, 제품별 시장 규모"
6 F. Y. Chang, "Transient Analysis of Lossless Coupled Transmission Lines in Nonhomogeneous Dielectnec Medium" 18 : 616-626, 1970
7 L. Gui, "Research on the EM Modeling of Optimization of PCB Grounded VIA" 195-196 : 1153-1157, 2012
8 김영길, "PCB에서 최적 VIA 수 찾는Simulation" 15 (15): 329-332, 2011
9 "Mentor Graphics"
10 박진홍, "Mentor Borad Station을 이용한 Print Circuit Borad의 설계" 북두출판사 2003
11 E. Monier-Vinard, "Impact of PCB VIA and Micro-VIA Structures on Component Thermal Performances" 2010
12 H. Adachi, "High-Speed Interconnect Technology for Servers" 47 (47): 142-149, 2011
13 A. Edgar, "Circuit Board Design: Unit 1. Review of PCB Design" Univ. Boston
14 "CADENCE"
15 이상호, "CAD Allegro을 이용한 환경 자동실행으로 PCB작업시간 단축에 대한 연구" 한국정보통신학회 16 (16): 1204-1208, 2012
16 J. Cofield, "Autorouting Technique for Multichip Modules" PCB Design Soultions 1993
‘모바일 디바이스 환경에서의 사용자 익명성을 위한 원격 사용자 인증기법’에 대한 취약점 분석
개인 맞춤형 헬스케어 서비스를 위한 선택적 라이프로그 관리기법
워크플로우 모델링을 통한 IaaS 클라우드 플랫폼 구축 최적화
학술지 이력
연월일 | 이력구분 | 이력상세 | 등재구분 |
---|---|---|---|
2027 | 평가예정 | 재인증평가 신청대상 (재인증) | |
2021-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (재인증) | |
2018-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | |
2015-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | |
2011-01-01 | 평가 | 등재학술지 선정 (등재후보2차) | |
2010-01-01 | 평가 | 등재후보 1차 PASS (등재후보1차) | |
2008-01-01 | 평가 | 등재후보학술지 선정 (신규평가) |
학술지 인용정보
기준연도 | WOS-KCI 통합IF(2년) | KCIF(2년) | KCIF(3년) |
---|---|---|---|
2016 | 0.68 | 0.68 | 0.62 |
KCIF(4년) | KCIF(5년) | 중심성지수(3년) | 즉시성지수 |
0.56 | 0.51 | 0.557 | 0.26 |