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1998년
eng
학술저널
INTERNATIONAL CONFERENCE ON SIMULATION OF SEMICONDUCTOR PROCESSES AND DEVICES
59-60 [※수록면이 p5 이하이면, Review, Columns, Editor's Note, Abstract 등일 경우가 있습니다.]
3211832084
Simulation of semiconductor processes and devices
International conference
Leuven; Belgium
1998; Sep
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Integration of Lithography and Etch Simulations
Integrated Three-Dimensional Topography Simulation and Its Application to Dual-Damascene Processing