1 G. Lu, 1237-, 2009
2 D. Bouangeune, 189-, 2012
3 M. Meneghini, 522-, 2010
4 Y. K. Su, 5 : 277-, 2005
5 G. Meneghesso, IEEE EOS/ESD 247-, 2001
6 S. C. Yang, 49 : 056602-, 2010
7 G. Meneghesso, 41 : 1609-, 2001
8 M. Meneghini, 57 : 108-, 2010
9 M. H. Chang, 52 : 762-, 2012
10 X. A. Cao, 85 : 7-, 2004
1 G. Lu, 1237-, 2009
2 D. Bouangeune, 189-, 2012
3 M. Meneghini, 522-, 2010
4 Y. K. Su, 5 : 277-, 2005
5 G. Meneghesso, IEEE EOS/ESD 247-, 2001
6 S. C. Yang, 49 : 056602-, 2010
7 G. Meneghesso, 41 : 1609-, 2001
8 M. Meneghini, 57 : 108-, 2010
9 M. H. Chang, 52 : 762-, 2012
10 X. A. Cao, 85 : 7-, 2004
11 T. Egawa, 82 : 5816-, 1997
12 S. K. Jeon, 94 : 131106-, 2009
13 M. Meneghinia, 54 : 1143-, 2014
14 S. Hwang, 44 : 590-, 2008
15 Y. J. Liu, 57 : 2155-, 2010
16 C. H. Jang, 23 : 968-, 2011
17 T. H. Chiang, 24 : 800-, 2012
18 D. Bouangeune, 54 : 2125-, 2013
19 X. A. Cao, 43 : 1987-, 2003
20 B. Jeppesen, 134-, 1998
21 T. Smedes, 136-, 2006
22 G. Notermans, 170-, 1998
23 Y. X. Sun, 33 : 433-, 2010
24 S. C. Shei, 28 : 346-, 2007
25 S. J. Chang, 6 : 442-, 2006
26 S. J. Chang, 24 : 129-, 2003
27 N. C. Chen, 311 : 994-, 2009
28 R. W. Chuang, 52 : 1043-, 2008
29 P. C. Tsai, 48 : 23-, 2010
30 L. B. Chang, 57 : 119-, 2010
31 J. J. Horng, 7 : 340-, 2007
32 T. Y. Park, 30 : 937-, 2009
33 L. B. Chang, 6894 : 689412-689411, 2008
34 T. Inoue, "Japanese Patent H11-040 848"
35 A. Amerasekera, "ESD in Silicon Integrated Circuits" John Wiley & Sons, Ltd. 8-, 2002
36 S. S. Choi, "Development of Transient Voltage Suppressor Device with Abrupt Junctions Embedded by Epitaxial Growth Technology" 대한금속·재료학회 5 (5): 59-62, 2009