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      The role of the etchant ion in the formation and growth of pores in silicon during its etching in hydrofluoric acid solutions

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      https://www.riss.kr/link?id=O68021257

      • 저자
      • 발행기관
      • 학술지명
      • 권호사항
      • 발행연도

        2016년

      • 작성언어

        eng

      • Print ISSN

        0012-5008

      • Online ISSN

        1608-3113

      • 등재정보

        SCI;SCIE;SCOPUS

      • 자료형태

        학술저널

      • 원정보자원

        DOKLADY CHEMISTRY C/C OF DOKLADY- AKADEMIIA NAUK SSSR THEN DOKLADY- AKADEMIIA NAUK

      • 수록면

        61-63   [※수록면이 p5 이하이면, Review, Columns, Editor's Note, Abstract 등일 경우가 있습니다.]

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