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      나노 압입곡선에 미치는 잔류응력 영향의 미세역학적 분석 = Micromechanical Analysis of the Effect of Residual Stress on the Nanoindentation Curve

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      https://www.riss.kr/link?id=A19618251

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      다국어 초록 (Multilingual Abstract)

      A new model is presented for measuring equi-biaxial stress on thin-film using nanoindentation. The model was focused on the analysis of a depth-shift in the nanoindentation curve by stress effect. A load-controlled relaxation of the shifted indentatio...

      A new model is presented for measuring equi-biaxial stress on thin-film using nanoindentation. The model was focused on the analysis of a depth-shift in the nanoindentation curve by stress effect. A load-controlled relaxation of the shifted indentation depth was chosen to avoid the variation of the contact area occurred in a depth-controlled relaxation. Nanoindentation experiments on (100) W single crystal at artificial equi-biaxial stress states verified that the proposed load-controlled relaxation model is capable of analyzing the residual stress within the standard deviation of ±35.9 MPa.

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