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Brilloueet, M. ELSEVIER 1997 p.5-14
Issues for multilevel metallization in high density circuits (Invited lecture)
Joswig, H. ELSEVIER 1997 p.15-28
Advanced materials for future interconnections of the future need and strategy (Invited lecture)
Murarka, S. E. ELSEVIER 1997 p.29-38
Three dimensional metallization for vertically integrated circuits (Invited lecture)
Ramm, P. ELSEVIER 1997 p.39-48
Dry etch challenges of 0.25 � dual damascene structures
Schnabel, R. F. ELSEVIER 1997 p.59-66
Total process in 0.18 and 0.25 � ohmic contacts (Invited lecture)
Hara, T. ELSEVIER 1997 p.67-76
High aspect ratio quarter-micron electroless copper integrated technology (Invited lecture)
Shacham-Diamand, Y. ELSEVIER 1997 p.77-88
Coppe CVD precursors and processes for advanced metallization (Invited lecture)
Doppelt, P. ELSEVIER 1997 p.89-96
Copper CVD precursors and processes for advanced metallization (Invited lecture)
Doppelt, P. Elsevier Science 1997 p.89-96
SJR(SCImago Journal Rank)는 스페인 Consejo Superior de Investigaciones Cintificas의 Felix de Moya 교수에 의해 개발된 것으로, '모든 인용은 동등하지 않다'는 전제를 기반으로 둔 학술지의 영향력 지수입니다.
구글의 Page Rank 알고리즘의 영향을 받아 전체 인용 네트워크에서 노드에 점수를 매기는 방식으로, 명성이 높은 저널에서의 인용은 고득점으로 평가되어 같은 인용이라도 보다 높게 평가 됩니다. 또한 저널의 주제분야, 질과 명성이 모두 직접 영향을 미치는 평가 지료라고 할 수 있습니다.
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