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1990
Korean
569
학술저널
52-64(13쪽)
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미국 , 일본 , 유럽 SOI 역사와 동향 및 전망 ( 현장체험을 중심으로 )
일본의 Future Electron Devices Symposium , 1989 참석보고
n / n+ / n 실리콘층을 이용한 FIPOS-SOI MOS 소자의 제조