- Abstract
- 1. 서론
- 2. 해석방법
- 3. 해석결과
- 4. 결론
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1998
Korean
SCOPUS,KCI등재
학술저널
2101-2107(7쪽)
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교류-직류 계통의 안정화를 위한 최적 변조제어기의 적용
저압 CVD에 의한 Si0.8Ge0.2 Epitaxial Growth에 대한 In-situ Phosphorus Doping 효과