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Stepwise Ni-silicide Process for Parasitic Resistance Reduction for Silicon/metal Contact Junction
Choi, Hoon, Cho, Il-Whan,Hong, Sang-Jeen The Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers 2008 p.137-142
Stepwise Ni-silicide Process for Parasitic Resistance Reduction for Silicon/metal Contact Junction
최훈, 조일환,홍상진 한국전기전자재료학회 2008 p.137-142
Thermal Impact Characteristics by Forest Fire on Porcelain Insulators for Transmission Lines
Lee, Won-Kyo, Choi, In-Hyuk,Choi, Jong-Kee,Hwang, Kab-Cheol,Han, Se-Won The Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers 2008 p.143-146
Thermal Impact Characteristics by Forest Fire on Porcelain Insulators for Transmission Lines
이원교, 최인혁,최종기,황갑철,한세원 한국전기전자재료학회 2008 p.143-146
Accelerating Aging of Transmission Line Porcelain Suspension Insulators by Autoclaving
Lee, Won-Kyo, Choi, In-Hyuk,Shin, Koo-Yong,Hwang, Kab-Cheol,Han, Se-Won The Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers 2008 p.147-150
Accelerating Aging of Transmission Line Porcelain Suspension Insulators by Autoclaving
이원교, 최인혁,신구용,황갑철,한세원 한국전기전자재료학회 2008 p.147-150
Lim, Eun-Ju, Manaka, Takaaki,Tamura, Ryosuke,Ohshima, Yuki,Iwamoto, Mitsumasa The Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers 2008 p.151-155
임은주, Takaaki Manaka,,Yuki Ohshima,Mitsumasa Iwamoto 한국전기전자재료학회 2008 p.151-155
On the Etching Mechanism of Parylene-C in Inductively Coupled O2 Plasma
Shutov, D.A., Kim, Sung-Ihl,Kwon, Kwang-Ho The Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers 2008 p.156-162
On the Etching Mechanism of Parylene-C in Inductively Coupled O₂ Plasma
Shutov Dmitriy, 김성일,권광호 한국전기전자재료학회 2008 p.156-162
SJR(SCImago Journal Rank)는 스페인 Consejo Superior de Investigaciones Cintificas의 Felix de Moya 교수에 의해 개발된 것으로, '모든 인용은 동등하지 않다'는 전제를 기반으로 둔 학술지의 영향력 지수입니다.
구글의 Page Rank 알고리즘의 영향을 받아 전체 인용 네트워크에서 노드에 점수를 매기는 방식으로, 명성이 높은 저널에서의 인용은 고득점으로 평가되어 같은 인용이라도 보다 높게 평가 됩니다. 또한 저널의 주제분야, 질과 명성이 모두 직접 영향을 미치는 평가 지료라고 할 수 있습니다.
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