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예시)

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ⅰ ⅱ ⅲ ⅳ ⅴ ⅵ ⅶ ⅷ ⅸ ⅹ Ⅰ Ⅱ Ⅲ Ⅳ Ⅴ Ⅵ Ⅶ Ⅷ Ⅸ Ⅹ

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저자

Ohtake, H. ; Ishihara, H. ; Fuse, T. ; Koshiishi, A. ; Samukawa, S.
발행기관

Institute of Electrical Engineers of Japan,
학술지명
PROCEEDINGS OF SYMPOSIUM ON DRY PROCESS
권호사항

Vol.- No.2 [2002]
발행연도
2002년
작성언어
eng
주제어

Dry process ; DPS ; Electrical engineers
자료형태
학술저널
원정보자원
PROCEEDINGS OF SYMPOSIUM ON DRY PROCESS
수록면
293-297 [※수록면이 p5 이하이면, Review, Columns, Editor's Note, Abstract 등일 경우가 있습니다.]
회의자료명
International symposium on dry process
회의명
2nd
회의장소
Tokyo
회의날짜
2002; Oct
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Porous Low-k/Copper Integration
- Institute of Electrical Engineers of Japan,
- Nogami, T.; Takahashi, S.; Tai, K.; Ohtorii, H.; Komai, N.; Horikoshi, H.; Sato, S.; Yasuda, Z.
- 2002
Effect of Film Composition on SiOCH Etching
- Institute of Electrical Engineers of Japan,
- Tatsumi, T.; Nagahata, K.; Urata, K.; Saito, T.; Minami, M.; Nogami, Y.; Iseda, S.; Morita, Y.
- 2002
Study of Ashing Technology for 90 nm and below Low-k/Cu Damascene Interconnect
- Institute of Electrical Engineers of Japan,
- Nambu, H.; Nishizawa, A.; Soda, E.; Maruyama, T.; Tokashiki, K.
- 2002
Investigation of Ashing Damage to Ultra-low-k Dielectric Material
- Institute of Electrical Engineers of Japan,
- Yonekura, K.; Sakamori, S.; Goto, K.; Matsuura, M.; Fujiwara, N.; Yoneda, M.
- 2002