Tilt-SEM 을 이용한 포토레지스트 미세 패턴 분석 = Analysis of photoresist micropattern using Tilt-SEM

목차 (Table of Contents)

• 제 1 장 서 론 1
• 제 2 장 이론적 배경 4
• 2.1 포토레지스트 라인 패턴 측정 4
• 2.1.1 반도체 패턴의 미세화 4
• 2.1.2 주사전자현미경의 원리 및 구조 9
• 2.1.3 포토레지스트 패턴 분석 장비 14
• 2.2 포토리소그래피 20
• 2.2.1 포토리소그래피 공정 20
• 2.2.2 포토레지스트 25
• 제 3 장 실험방법 28
• 3.1 포토레지스트 라인 패턴 샘플 및 공정 재료 28
• 3.2 실험장비 30
• 3.3 포토레지스트 라인 패턴 샘플 제작 37
• 제 4 장 실험결과 및 고찰 42
• 4.1 SEM tilting method를 이용한 PR 패턴의 height 및 sidewall angle 측정 42
• 4.1.1 단차별 포토레지스트 패턴 분석 42
• 4.1.2 공정별 포토레지스트 패턴 분석 63
• 4.1.3 100 nm 이하 선폭 포토레지스트 패턴 분석 67
• 4.2 sidewall angle 에 따른 CD 값 변화 75
• 4.2.1 포토레지스트 패턴 분석 thresholding algorithm 75
• 4.2.2 sidewall angle 이 CD 값 계산에 미치는 영향 78
• 4.3 분석 장비별 비교 84
• 제 5 장 결론 88
• 참고문헌 90
• ABSTRACT 97