http://chineseinput.net/에서 pinyin(병음)방식으로 중국어를 변환할 수 있습니다.
변환된 중국어를 복사하여 사용하시면 됩니다.
https://www.riss.kr/link?id=O40270292
1998년
eng
2166-2746
2166-2754
SCIE
학술저널
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY B MICROELECTRONICS AND NANOMETER STRUCTURE
339-343 [※수록면이 p5 이하이면, Review, Columns, Editor's Note, Abstract 등일 경우가 있습니다.]
Measurement and characterization of ultra-shallow doping profiles in semiconductors
International workshop; 4th
1998
0
상세조회0
다운로드
Qualification of spreading resistance probe operations
Characterization of low-energy (100 eV-10 keV) boron ion implantation