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2003년
oth
0385-4213
1348-8147
SCOPUS
학술저널
520-527 [※수록면이 p5 이하이면, Review, Columns, Editor's Note, Abstract 등일 경우가 있습니다.]
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Control Technology of High Current and its Application on Power and Energy Systems
C~4F~8 Semiconductor Gas Abatement by Employing Inductively Coupled Plasma with Multi-mode Antenna